Projektbereich D Lugscheider, Erich 383 Projektbereich D ... - SFB 289
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<strong>Projektbereich</strong> D<br />
<strong>Lugscheider</strong>, <strong>Erich</strong><br />
405<br />
vergiftung und damit eine mögliche Arc-Bildung reduziert bzw. unterdrückt wurden. Des<br />
Weiteren konnte die Prozesstemperatur bei vergleichbarer Leistungseinbringung zu einem<br />
DC-Prozess gesenkt werden.<br />
Bei der Umsetzung dieser Zielvorgaben wurden in verschiedenen Versuchsreihen die<br />
unterschiedlichen Parameter hinsichtlich ihres Einflusses untersucht. Dabei ergaben sich<br />
drei entscheidende Parameter: Druck, Temperatur und Sauerstoffpartialdruck. Der<br />
Sauerstoffpartialdruck bzw. der Sauerstofffluss übte den primären Einfluss auf die Schicht<br />
aus. Im Vergleich der Schichtstruktur und Schichtdicke im Zusammenhang mit dem Sauerstofffluss<br />
konnten drei Bereiche der Schichtbildung ermittelt werden. Bei Sauerstoffflüssen<br />
unter 3,9sccm wurden stets metallische oder amorphe Schichten mit hohen Schichtraten<br />
abgeschieden. Bei einer Steigerung des Sauerstoffanteils auf Flussraten von 3,9sccm bis<br />
6,2sccm wurden kristalline Al2O3 Schichten erzeugt (Bild D-7). Eine weitere Erhöhung<br />
des Sauerstoffflusses führte zu einem starken Abfall in der Schichtrate bedingt durch die<br />
Targetvergiftung und Funkenentladung. Die sich ausbildende Schichtstruktur war<br />
kristallin, aber im Vergleich zu Schichten des vorhergehenden Bereiches deutlich spröder<br />
und von geringerer Haftfestigkeit. Da die Haftfestigkeit der Schichten im Allgemeinen<br />
unzureichend war, wurden Versuche mit Haftvermittlern durchgeführt. Als Haftvermittler<br />
wurden Chrom, TiAl (75-25) und Wolfram untersucht. Mit Chrom als Haftvermittler<br />
konnten keine Verbesserungen der Haftfestigkeit erreicht werden. In Kombination mit<br />
Wolfram als Haftvermittler konnten gute Ergebnisse erzielt werden. Im Folgenden wird<br />
auf die Schichtentwicklung detailliert eingegangen und anhand der Ergebnisse der<br />
Oberflächenanalytik dokumentiert. Zur Grundcharakterisierung der Versuchsreihen<br />
wurden die gleichen Prüfungsverfahren angewandt wie bei der Schichtentwicklung des<br />
ZrO2. Zusätzlich wurden Nanointender-Untersuchungen mit in den Analyseplan mit<br />
aufgenommen.<br />
Der Kalottenschliff dient zur Überprüfung der Schichtdicke. Hier zeigte sich deutlich, dass<br />
der Sauerstoffpartialdruck bzw. der Sauerstofffluss starken Einfluss auf die Schichtdicke<br />
hatte. Mit zunehmenden Sauerstofffluss nimmt die Schichtdicke immer stärker ab<br />
(Bild D-9). Dies kann auf die zunehmende Targetvergiftung zurückgeführt werden. Bei<br />
niedrigen Sauerstoffflüssen machte sich zusätzlich auch ein Temperatureinfluss auf die<br />
Schichtdicke bemerkbar. Bei höheren Sauerstoffflüssen war kein Einfluss nachweisbar.<br />
Bei der Überprüfung, ob es eine Einwirkung des Drucks auf die Schichtdicke gibt, stellte<br />
sich allerdings eine solche Abhängigkeit heraus. Bei einem Druck von 1 Pa wurden die<br />
höchsten Schichtdicken erreicht (Bild D-10). Neben der Schichtdickenbestimmung kann<br />
das Schliffbild der Kalotte auch zur qualitativen Einordnung der Schichthaftung genutzt<br />
werden. In Bild D-11a und D-11b sind zwei Schliffbilder im direkten Vergleich<br />
dargestellt. Man erkennt deutlich in Bild D-11a Ausbrüche am Übergang<br />
Haftvermittler/Schicht, während der Übergang vom Substrat zum Haftvermittler keinerlei