Projektbereich D Lugscheider, Erich 383 Projektbereich D ... - SFB 289

Kurzz. O2
[sccm]
Heizung
[°C]
Dicke
[µm]
Ar O2% Druck
[Pa]
Härte E-
Modul
Projektbereich D
Lugscheider, Erich
411
Krit. Last
[N]
C26 3,2 470 2,887 40,5 8 0,5 25 370 20 W
C22 3,91 470 1,5 39,7 10 0,5 22,5 326,7 50 (bei
20N
plast.
Def.)
C25 5,67 470 0,86 38,1 15 0,5 26,3 331,5 20 W
C31 6,5 470 0,744 37,6 17,5 0,5 17 291 20 W
Reihe 4
C30 4 470 2,849 93,7 4,3 1,3 9,6 218 bei 60N
plast.
Def.
C29 5,18 470 2,448 104,4 5 1,3 7 220 50 W
C28 6,07 470 1,251 94,4 6,5 1,3 22 320 20 W
C27 7,73 470 1,079 98 8 1,3 19 310 20 W
Tabelle D-3: Übersicht über das untersuchte Parameterfeld der Al2O3-PVD-
Schichten und die Untersuchungsergebnisse
Zusammenfassend kann festgehalten werden, dass eine kristalline, hochtemperaturstabile
-Al2O3 abgeschieden wurde. Vergleichbar zum Zirkoniumdioxid konnte durch den
Pulseinsatz beim Magnetron Sputtern die Schichtrate deutlich erhöht werden und eine rein
kristalline Schicht abgeschieden werden. Damit wird auch hier die chemische Beständigkeit
der Schicht wesentlich verbessert. In den weiteren Versuchen erwiesen sich diese
Schichtsysteme den Anforderungen gewachsen. Daher wurde eine Weiterentwicklung des
Spinell MgAl2O4 nicht weiter verfolgt. Die Umsetzung dieses Schichtsystems auf einen
reaktiven gepulsten Prozess gestaltet sich sehr komplex, da es sich bei dem Spinell
MgAl2O4 um ein Aluminiumoxid, in das MgO-Moleküle eingelagert sind, handelt.
Dadurch ist diese Verbindung hochtemperaturstabil und sehr verschleißfest. Durch die
Abscheidung einer hochtemperaturstabilen Al2O3-Phase können ähnliche Eigenschaften
erreicht werden. Die hohe chemische Inertheit konnte durch die hochtemperaturstabile
ZrO2-Phase realisiert werden. Damit können mit diesen Schichtsystemen alle
Anforderungen erfüllt werden.
Haftvermittler
W
W