Projektbereich D Lugscheider, Erich 383 Projektbereich D ... - SFB 289
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<strong>Projektbereich</strong> D<br />
<strong>Lugscheider</strong>, <strong>Erich</strong><br />
419<br />
Die beiden Nachbehandlungen der thermisch gespritzten Schichten stellten sich im<br />
Einzelnen wie folgt dar:<br />
Das Anlassen erfolgte im Vakuum bei 800°C. Die Proben wurden innerhalb von vier<br />
Stunden auf eine Temperatur von 800°C gebracht und anschließend eine Stunde auf dieser<br />
Temperatur gehalten. Der nachfolgende Kühlprozess dauerte zwei Stunden. Dieser Zyklus<br />
wurde ein- bis dreimal durchlaufen. Das heißisostatische Pressen (HIP) wurde bei 1100°C<br />
unter einem Druck von 100MPa ausgeführt. Dazu wurden die Proben innerhalb von drei<br />
Stunden auf Temperatur gebracht. Der reine HIP Prozess dauerte sechs Stunden.<br />
Anschließend wurden die heißisostatisch gepressten Proben langsam auf Raumtemperatur<br />
abgekühlt.<br />
Um die Gefüge- und Phasenveränderungen der beiden Nachbehandlungen genauer charakterisieren<br />
zu können, wurden das verwendete Pulver, die gespritzte Schicht und die<br />
nachverdichteten Schichten mittels Röntgendiffraktometrie (XRD) untersucht. Des<br />
Weiteren wurden Querschliffe für lichtmikroskopische (LM) Untersuchungen angefertigt.<br />
Bereits anhand der Bilder der LM Untersuchungen (Bild D-20a-c) können deutliche<br />
Veränderungen in der Gefügestruktur der thermisch gespritzten Schichten ausgemacht<br />
werden. Gleichzeitig konnte mit diesen Bildern eine schematische Veränderung der<br />
thermisch gespritzten Schichten dargestellt werden (Bild D-20a-c).
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