Projektbereich D Lugscheider, Erich 383 Projektbereich D ... - SFB 289
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<strong>Projektbereich</strong> D<br />
<strong>Lugscheider</strong>, <strong>Erich</strong><br />
480<br />
Schichten sowie weiterer im Rahmen des <strong>SFB</strong> erprobter Schichtsysteme sind in<br />
Tabelle D-9 zusammengefasst.<br />
Al2O3<br />
Temperatur 500 °C-650 °C 550°C<br />
Druck 170-200 Pa 175 Pa<br />
Diffusionsbechandlung<br />
Gasmischung AlCl3-H2-O2-Ar N2/C2H4/BCl3/O2-H2-Ar<br />
Frequenz 10-25kHz 10 kHz<br />
Verhältnis O2/AlCl3 0,5-1,4 -<br />
Gesamter Gasdurchfluss 21,57 nl/h 17,5 nl/h<br />
Plasmaleistung auf der<br />
unteren Kathode<br />
0,75 – 9.05 W/cm 2 1.5 W/cm 2<br />
Spannung 450-950 V 600 V<br />
Tabelle D-9: Parameter der Oberflächebehandlung in der PECVD-Anlage<br />
Es wurde festgestellt, dass sich die kristallografische Struktur des Al2O3 in deutlicher<br />
Abhängigkeit von den Abscheideparametern wie Temperatur und Kathodenleistungsdichte<br />
ändert. Die gesamten Ergebnisse lassen sich in einem schematischen Diagramm darstellen<br />
(Bild D-64).
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