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Modélisation et simulation numérique de la génération de plasma ...

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8.1. Dispositif Fil - Fil en pseudo 1D2E1.5SS (cm)1ano<strong>de</strong>catho<strong>de</strong>x0.502 3 4 5 6x (cm)Figure 8.2 – E ext <strong>et</strong> épaisseur <strong>de</strong> p<strong>la</strong>sma S typiques pour le modèle pseudo 1D <strong>de</strong> <strong>la</strong> configurationexpérimentale (gauche); véritable tracé <strong>de</strong> S pour les cas étudiés (droite)ainsi un paramètre du problème. Une représentation typique <strong>de</strong> S(x) est donnée Figure 8.2, oùapparaît également <strong>la</strong> répartition du champ extérieur.On écrit le jeu d’équations monodimensionnelles (6.1) à (6.5) en introduisant <strong>la</strong> section Sdéfinie ci-avant. L’évolution <strong>de</strong> f est ici donnée par l’équation 8.2 :∂f∂x = − 1ln( R r 1)(β 2 − 1)r 1(x − βr 1 )(βx − r 1 )(8.3)On en déduit <strong>la</strong> valeur <strong>de</strong> <strong>la</strong> constante C t :C t = −ǫ 0 RS(r 1 )L 1 (β 2 − 1)r 1ln( R r 1) (r 1 − βr 1 )(βr 1 − r 1 )(8.4)où L est <strong>la</strong> longueur finie <strong>de</strong>s électro<strong>de</strong>s.Le volume <strong>de</strong> <strong>la</strong> maille i servant à <strong>la</strong> résolution <strong>de</strong>s équations (6.18) <strong>et</strong> (6.19) est :∆v i = LS i ∆x i (8.5)8.1.2 Paramètres du calculLes paramètres du calcul sont résumés Tableau 8.1. Les électro<strong>de</strong>s sont distantes <strong>de</strong> 4 cm.L’ano<strong>de</strong> a un rayon r 1 <strong>de</strong> 0,35 mm <strong>et</strong> <strong>la</strong> catho<strong>de</strong> un rayon r 2 <strong>de</strong> 1 mm. Le domaine <strong>de</strong> calculs’étend <strong>de</strong> l’ano<strong>de</strong>, p<strong>la</strong>cée en x = 2 cm, à <strong>la</strong> catho<strong>de</strong>, p<strong>la</strong>cée en x = 6 cm. L’ano<strong>de</strong> <strong>et</strong> <strong>la</strong> catho<strong>de</strong>sont reliées à un générateur <strong>de</strong> tension continue <strong>de</strong> 40 kV via une résistance <strong>de</strong> 1 kΩ. Le processusd’ensemencement secondaire d’électrons à <strong>la</strong> catho<strong>de</strong> est celui du bombar<strong>de</strong>ment ionique, avecun coefficient γ = 10 −4 . Les résultats sont présentés pour <strong>de</strong>s mail<strong>la</strong>ges uniformes comptantl x = 400, 800, 1600 <strong>et</strong> 3200 mailles. La longueur <strong>de</strong>s électro<strong>de</strong>s est <strong>de</strong> 16 cm. On modélise ledomaine d’extension maximal par <strong>la</strong> zone expérimentale sur lequel l’eff<strong>et</strong> <strong>de</strong> <strong>la</strong> décharge surl’aérodynamique est ressenti, à savoir S max = 5 mm, voir Figure 3.5. Il s’agit ici d’un pointdélicat du modèle, décou<strong>la</strong>nt <strong>de</strong> son caractère monodimensionnel. Le flui<strong>de</strong> est au repos <strong>et</strong> aux99

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