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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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Cof (fF/µm)<br />

Cof(fF/µm)<br />

Cov (fF/µm)<br />

Chapitre III: Evaluation analytique <strong>de</strong>s capacités parasites dans les structures CMOS.<br />

espaceur<br />

Source-drain<br />

grille<br />

oxy<strong>de</strong><br />

substrat<br />

dL(nm)<br />

a) b)<br />

Figure III-11 : (a) Kit <strong>de</strong> simulation FlexPDE <strong>pour</strong> la validation du modèle <strong>de</strong> capacité <strong>de</strong> recouvrement C ov.<br />

(b) Tracé <strong>de</strong> la variation <strong>de</strong> capacité <strong>de</strong> recouvrement en fonction <strong>de</strong> la longueur <strong>de</strong> recouvrement dL avec<br />

notre modèle et comparaison avec les simulations numériques.<br />

0.40<br />

0.35<br />

0.30<br />

0.25<br />

0.20<br />

0.15<br />

0.10<br />

0.05<br />

0.00<br />

Simulations numériques<br />

Modèle<br />

0 2 4 6 8 10<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

III.C.3.<br />

Capacité <strong>de</strong> bords externes (Cof)<br />

La capacité <strong>de</strong> bords externes est une capacité entre <strong>de</strong>ux électro<strong>de</strong>s perpendiculaires. Pour l’évaluer, il nous<br />

suffit donc d’utiliser l’équation III-34 avec (x 1 , x 2 , y 1 , y 2 )=(0, t ox , t sp , H g ) :<br />

√ √ ( ) ( )<br />

( ) Eq. III-37<br />

Nous validons ce modèle par simulations numériques FlexPDE avec le même kit utilisé dans le paragraphe III.C.2<br />

<strong>pour</strong> la capacité <strong>de</strong> recouvrement C ov , mais cette fois nous fixons la longueur <strong>de</strong> recouvrement à 0. La Figure III-12<br />

montre que notre modèle reproduit bien les résultats <strong>de</strong> simulations en fonction <strong>de</strong> la hauteur <strong>de</strong> grille (b). Elle<br />

montre cependant également que le modèle reproduit convenablement les simulations <strong>pour</strong> les épaisseurs<br />

d’espaceur supérieures à 10nm (a). En <strong>de</strong>ssous, l’écart entre modèle et simulation augmente du fait <strong>de</strong> la part <strong>de</strong><br />

plus en plus importante prise par le terme <strong>de</strong> capacité due aux lignes <strong>de</strong> champ non elliptiques (Eq III-33). L’erreur<br />

reste tout <strong>de</strong> même raisonnable et sera négligeable par rapport aux autres capacités parasites lors <strong>de</strong> calcul <strong>de</strong><br />

capacité <strong>de</strong> dispositifs totale (t sp

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