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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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Chapitre I: Le transistor MOSFET: fonctionnement, miniaturisation et architectures.<br />

I.C.2.<br />

Réduction <strong>de</strong> la longueur <strong>de</strong> grille<br />

Lorsque la longueur <strong>de</strong> grille est réduite, l’impact <strong>de</strong>s zones source et drain sur le canal <strong>de</strong> conduction ne peut<br />

plus être négligé. En effet, les interfaces entre source et substrat puis substrat et drain forment <strong>de</strong>ux jonctions PN<br />

et une zone <strong>de</strong> déplétion se forme à chaque interface. La théorie classique <strong>de</strong>s jonctions PN nous indique que<br />

cette zone <strong>de</strong> déplétion (ou zone <strong>de</strong> charge d’espace) s’étend du côté <strong>de</strong> la jonction qui est le moins dopé, donc<br />

dans le substrat. Les parties proches <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> grille (donc l’emplacement du canal <strong>de</strong> conduction) <strong>de</strong>s <strong>de</strong>ux<br />

zones <strong>de</strong> charge d’espace ainsi formées sont alors moins bien contrôlées par la grille, car déplétées sous l’action<br />

<strong>de</strong> la source ou du drain. Pour les transistors à canal long, l’extension <strong>de</strong>s zones <strong>de</strong> charges d’espace est<br />

négligeable <strong>de</strong>vant la longueur <strong>de</strong> grille et ce phénomène n’a pas d’effet sur le comportement électrique du<br />

transistor (Figure I-14-a). Lorsque la longueur <strong>de</strong> grille est réduite, l’extension <strong>de</strong>s zones <strong>de</strong> charge d’espace n’est<br />

plus négligeable <strong>de</strong>vant la longueur <strong>de</strong> grille. La grille commence alors à perdre une partie <strong>de</strong> son contrôle<br />

électrostatique (Figure I-14-b). Enfin, si <strong>de</strong> plus une polarisation est appliquée sur le drain (la source est<br />

généralement à la masse), la zone <strong>de</strong> charge d’espace coté drain s’étend encore plus dans le substrat et son<br />

extension est d’autant plus gran<strong>de</strong> que la polarisation <strong>de</strong> drain est forte (Figure I-14-c), jusqu’à, éventuellement,<br />

superposition entre les zones <strong>de</strong> charge d’espace. Le contrôle électrostatique est donc encore réduit par la<br />

polarisation <strong>de</strong> drain dans le cas d’un transistor à canal court.<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

Source<br />

L g<br />

Grille<br />

Substrat<br />

Drain<br />

Source<br />

L g<br />

Grille<br />

Substrat<br />

a) b) c)<br />

Figure I-14 : Illustration <strong>de</strong> l’extension <strong>de</strong> la zone <strong>de</strong> charge d’espace coté source et drain <strong>pour</strong> (a) un transistor à<br />

canal long (b) un transistor à canal court avec une polarisation <strong>de</strong> drain V d négligeable (c) un transistor à canal<br />

court avec une polarisation <strong>de</strong> drain V d forte. Les pointillés indiquent l’extension <strong>de</strong> la zone <strong>de</strong> charge d’espace.<br />

La perte <strong>de</strong> contrôle électrostatique <strong>de</strong> la grille dans le cas d’un transistor à canal court se traduit par un<br />

abaissement <strong>de</strong> la tension <strong>de</strong> seuil. En effet, le rapprochement <strong>de</strong>s zones <strong>de</strong> charge d’espace a <strong>pour</strong> effet<br />

d’abaisser la barrière <strong>de</strong> potentiel entre la source et le drain. La réduction <strong>de</strong> tension <strong>de</strong> seuil associée à ce<br />

premier effet défini le paramètre SCE (« Short Channel Effect », effet canal court en français). Si <strong>de</strong> plus une<br />

polarisation est appliquée sur le drain, la barrière <strong>de</strong> potentiel entre source et drain est encore réduite. La<br />

diminution <strong>de</strong> tension <strong>de</strong> seuil correspondante définit le paramètre DIBL (« Drain Induced Barrier Lowering »<br />

abaissement <strong>de</strong> barrière due à la polarisation <strong>de</strong> drain en français). La tension <strong>de</strong> seuil d’un transistor à canal<br />

court s’écrit alors :<br />

V d ~0<br />

Drain<br />

Source<br />

V d<br />

Substrat<br />

L g<br />

Grille<br />

V d<br />

V d >0<br />

Drain<br />

V d ~0<br />

Eq. I-47<br />

Où V thlong est la tension <strong>de</strong> seuil du transistor à canal long, donnée par l’équation I-15.<br />

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