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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

Annexe<br />

mince.<br />

L (m)<br />

Longueur <strong>de</strong> grille.<br />

W (m)<br />

Largeur physique du transistor.<br />

HSI (m)<br />

Hauteur du fin (uniquement <strong>pour</strong> architecture FinFET/Trigate).<br />

FINPITCH (m)<br />

Pas <strong>de</strong> répétition d’un fin (uniquement <strong>pour</strong> architecture FinFET/Trigate).<br />

RS (Ω.µm)<br />

Résistance d’accès S/D.<br />

TYPEOXYDE ()<br />

Test si oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> grille en SiO 2 ou en matériau HK.<br />

EPSILONOXYDE () Permittivité <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> grille.<br />

TYPEGATE ()<br />

Test si grille en polysilicium ou en métal.<br />

PHIM (V)<br />

Travail <strong>de</strong> sortie <strong>de</strong> la grille.<br />

DIT (cm 2 /eV)<br />

Densité d’état d’interface.<br />

ZETA1 ()<br />

Paramètre d’ajustement du DIBL <strong>pour</strong> le modèle BULK.<br />

ZETA2 ()<br />

Paramètre d’ajustement du SCE <strong>pour</strong> le modèle BULK.<br />

GAMMA ()<br />

Evaluation <strong>de</strong> la longueur <strong>de</strong> la zone <strong>de</strong> recouvrement <strong>de</strong>s jonctions sous la grille en<br />

fonction <strong>de</strong> la longueur <strong>de</strong> grille.<br />

P () Paramètre ajustant le passage en saturation <strong>de</strong>s I d -V d .<br />

I0 (A)<br />

Proportionnel à la valeur du courant au seuil.<br />

KVS ()<br />

Paramètre <strong>de</strong> vitesse <strong>de</strong> saturation.<br />

CBSCR_FITPARAM () Valeur du paramètre <strong>de</strong> l’effet d’écrantage <strong>de</strong> Coulomb sur la mobilité.<br />

ACTIV_CBSCR () Activation <strong>de</strong> l’effet d’écrantage <strong>de</strong> Coulomb sur la mobilité.<br />

KSTR ()<br />

Paramètre <strong>de</strong> dégradation/amélioration <strong>de</strong> la mobilité effective du à la contrainte.<br />

ALPHAMUEFF () Paramètre <strong>de</strong> dégradation <strong>de</strong> la mobilité due à la réduction <strong>de</strong> longueur <strong>de</strong> grille.<br />

kmuMax ()<br />

Facteur d’amélioration maximale <strong>de</strong> la mobilité, par défaut 1.8 <strong>pour</strong> un NMOS, 2.5<br />

<strong>pour</strong> un PMOS.<br />

ksub ()<br />

Facteur d’amélioration <strong>de</strong> la mobilité à faible champ.<br />

kpocket ()<br />

Facteur d’amélioration <strong>de</strong> la mobilité due aux poches <strong>de</strong> contrainte (i.e au liner<br />

contraint).<br />

Lstrain (m)<br />

Longueur <strong>de</strong> la poche <strong>de</strong> contrainte résultante.<br />

GradStress ()<br />

Gradient <strong>de</strong> contrainte du au liner contraint.<br />

activeStressLoc () Activation (=1) <strong>de</strong> l’effet du liner contraint sur la mobilité.<br />

kchannel ()<br />

Facteur d’amélioration <strong>de</strong> la mobilité dû au canal.<br />

CPP (m)<br />

Contacted Poly Pitch.<br />

TYPE ()<br />

Type du transistor: NMOS ou PMOS.<br />

TBOX (m)<br />

Epaisseur <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> enterré.<br />

I<strong>de</strong>ntifie l’architecture considérée:<br />

1: BULK without Raised S/D.<br />

2: BULK with Raised S/D.<br />

3: FDSOI_no_Rs/d<br />

ARCHITECTURE () 4: FDSOI_with_Rs/d<br />

5: DG_no_Rs/d<br />

6: DG_with_Rs/d<br />

7: FINFET_with_Rs/d<br />

8: Trigate_with_Rs/d<br />

GPN () 1 : GPN<br />

Type d’implantation du Ground Plane (<strong>pour</strong> FDSOI uniquement) :<br />

0 : GPP<br />

NGP (m -3 )<br />

Dopage du GP.<br />

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