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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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Chapitre I: Le transistor MOSFET: fonctionnement, miniaturisation et architectures.<br />

Avec :<br />

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<br />

h=6.62.10 -34 J.s -1 est la constante <strong>de</strong> Planck.<br />

m c =9.66.10 -31 kg est la masse effective <strong>de</strong> l’électron.<br />

m c =5.37.10 -31 kg est la masse effective d’un trou.<br />

La prise en compte <strong>de</strong> la dépendance <strong>de</strong> tous ces paramètres avec la température est fastidieuse, mais nécessaire<br />

<strong>pour</strong> prévoir la variation <strong>de</strong> tension <strong>de</strong> seuil.<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

I.A.4.<br />

La tension <strong>de</strong> seuil<br />

La tension <strong>de</strong> seuil d’un transistor MOSFET est la tension <strong>de</strong> grille <strong>pour</strong> laquelle le transistor passe <strong>de</strong> l’état bloqué<br />

à l’état passant. Il s’agit donc <strong>de</strong> la tension <strong>pour</strong> laquelle le canal <strong>de</strong> conduction entre source et drain se forme.<br />

Dans un transistor MOSFET, le courant est dû aux porteurs minoritaires, par conséquent, l’état passant du<br />

transistor MOSFET correspond au régime d’inversion <strong>de</strong> la capacité MOS. Cette remarque ne suffit pas à<br />

connaitre l’emplacement exact du seuil. Pour que le transistor soit bel et bien à l’état passant, la quantité <strong>de</strong><br />

charge d’inversion doit être suffisante. De manière quantitative, cela signifie que la quantité <strong>de</strong> porteurs<br />

minoritaires, <strong>de</strong> <strong>de</strong>nsité n s doit être supérieure à la quantité <strong>de</strong> dopants ionisés, (<strong>de</strong>s accepteurs <strong>pour</strong> un NMOS),<br />

<strong>de</strong> <strong>de</strong>nsité égale au niveau <strong>de</strong> dopage N ch . Le seuil est donc donné par l’égalité entre ces <strong>de</strong>ux quantités.<br />

Formellement, en utilisant la statistique <strong>de</strong> Fermi <strong>pour</strong> les distributions <strong>de</strong> porteurs [Mathieu 04], on obtient :<br />

( )<br />

En résolvant cette équation, on obtient la valeur du potentiel <strong>de</strong> surface au seuil :<br />

Eq. I-8<br />

Eq. I-9<br />

Le passage <strong>de</strong> l’état bloqué à l’état passant du transistor MOSFET correspond donc au passage en régime<br />

d’inversion forte <strong>de</strong> la capacité MOS. Afin d’obtenir l’expression <strong>de</strong> la tension <strong>de</strong> seuil, nous <strong>de</strong>vons lier la<br />

polarisation <strong>de</strong> grille V g , au potentiel <strong>de</strong> surface ϕ s dont nous connaissons la valeur au seuil grâce à l’équation I-9.<br />

Ecrivons alors la loi <strong>de</strong> Gauss dans le semiconducteur <strong>de</strong> la capacité MOS (représentée sur Figure I-3):<br />

( ) Eq. I-10<br />

Avec C ox capacité <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> grille, donné par la relation C ox =ε SiO2 /t ox . Or, au seuil, on se trouve à la limite entre les<br />

régimes d’inversion faible et d’inversion forte, la charge d’accumulation Q acc est donc négligeable. De plus, la<br />

variation <strong>de</strong> charge d’inversion Q inv est encore faible <strong>de</strong>vant celle <strong>de</strong> déplétion Q <strong>de</strong>p , et peut donc être négligée.<br />

L’équation I-10 peut donc être réduite comme:<br />

( ) Eq. I-11<br />

La tension <strong>de</strong> seuil V th est la polarisation <strong>de</strong> grille V g <strong>pour</strong> laquelle on a l’égalité ϕ s =2ϕ f . En isolant V g dans<br />

l’équation I-11 puis en se plaçant au seuil, on a :<br />

Eq. I-12<br />

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