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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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SNM (mV)<br />

Chapitre VI: Comparaison <strong>de</strong>s <strong>performances</strong> logiques et SRAM au noeud 14-16nm.<br />

Spécification<br />

Target 185mV<br />

SNM=185mV<br />

@@V V dd =0.8V<br />

dd =0.8V<br />

b)<br />

BULK FDSOI Trigate<br />

WPU 50 nm 55 nm 60 nm<br />

LPU 25 nm 20 nm 20 nm<br />

WPD 50 nm 55 nm 60 nm<br />

LPD 25 nm 20 nm 20 nm<br />

WPG 42 nm 40 nm 60 nm<br />

LPG 30 nm 26 nm 30 nm<br />

Area 0.047µm² 0.046µm² 0.049µm²<br />

SNM 186 mV 182 mV 186 mV<br />

a)<br />

Figure VI-15 : a) définition <strong>de</strong> la SNM (Static Noise Margin) sur une courbe papillon (tension d’entrée en<br />

fonction <strong>de</strong> la tension <strong>de</strong> sortie) typique d’une cellule SRAM. b) Dessins <strong>de</strong> cellules SRAM obtenus <strong>pour</strong> chaque<br />

architecture <strong>de</strong> transistor.<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

Il faut remarquer ici que, du fait <strong>de</strong> notre contrainte portant sur la surface <strong>de</strong> la cellule SRAM, la cellule SRAM<br />

construite à partir <strong>de</strong> transistor Trigate est limitée à <strong>de</strong>s transistors à un seul fin. Dans ce cas, l’ajustement <strong>de</strong> la<br />

cellule <strong>pour</strong>ra être effectué seulement au travers <strong>de</strong> la longueur <strong>de</strong> grille <strong>de</strong>s transistors <strong>pour</strong> atteindre la valeur<br />

<strong>de</strong> SNM spécifiée (contrairement au cas planaire où chacune <strong>de</strong>s largeurs <strong>de</strong>s trois transistors <strong>de</strong> la cellule <strong>pour</strong>ra<br />

être librement modifiée). Nous pouvons alors effectuer <strong>de</strong>s simulations <strong>de</strong>s cellules SRAM données par la Figure<br />

VI-15-b en utilisant MASTAR VA au travers d’un simulateur <strong>de</strong> circuit conventionnel [ELDO]. On peut alors tracer<br />

la variation <strong>de</strong> la SNM en fonction <strong>de</strong> la tension d’alimentation V dd dans chaque cas (Figure VI-16).<br />

300<br />

250<br />

200<br />

150<br />

SNM=185mV@V dd =0.8V<br />

100<br />

0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 1.1 1.2<br />

V dd (V)<br />

Figure VI-16 : Variation <strong>de</strong> la SNM en fonction <strong>de</strong> la tension d’alimentation V dd <strong>pour</strong> chaque architecture.<br />

VI.C.3.<br />

Définition <strong>de</strong>s sources <strong>de</strong> variabilité<br />

Pour définir les sources <strong>de</strong> variabilité <strong>de</strong>s paramètres technologiques due au procédé <strong>de</strong> fabrication, nous allons<br />

considérer que chaque paramètre suit une distribution gaussienne, définie par :<br />

Sa valeur moyenne M, égale à la valeur ciblée du paramètre en question.<br />

Son écart type σ, donné par :<br />

o L’équation : 3xσ=12%M <strong>pour</strong> les paramètres technologiques obtenus par gravure (L, t si <strong>pour</strong> le<br />

Trigate uniquement, W, h si ).<br />

o Par la littérature <strong>pour</strong> les autres paramètres [Weber 08] [GSS-b] [GSS-c].<br />

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