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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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Chapitre V: Evaluation <strong>de</strong>s <strong>performances</strong> avec <strong>de</strong>s outils <strong>de</strong> CAO conventionnels.<br />

grille (ϕ ms ) et le dopage canal uniquement dans le cas <strong>de</strong> transistor sur substrat massif (N ch ). Nous considérerons<br />

chaque distribution Gaussienne centrée autour <strong>de</strong> la valeur visée et d’écart type:<br />

Pour les dimensions <strong>de</strong> paramètres technologiques définies par gravure, nous considèrerons que l’écart<br />

type σ respecte la loi [Bœuf 08] :<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

Où CD (Critical Dimension en anglais) est la dimension visée.<br />

Ceci s’applique <strong>pour</strong> :<br />

o La longueur <strong>de</strong> grille L g<br />

o L’épaisseur <strong>de</strong> fin t si<br />

o La hauteur <strong>de</strong> fin h si<br />

o La largeur <strong>de</strong>s dispositifs W<br />

Pour l’épaisseur <strong>de</strong> film <strong>de</strong> silicium dans le cas <strong>de</strong> technologie FDSOI, nous utiliserons la valeur reportée<br />

par [Weber 08] qui vaut σ tsi =0.2nm.<br />

Pour l’épaisseur d’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> grille (EOT), nous choisissons un écart type <strong>de</strong> σ EOT =0.1nm.<br />

Pour le dopage canal (N ch ), uniquement dans le cas <strong>de</strong> l’architecture conventionnelle sur substrat massif,<br />

nous considérerons un écart type σ NCH =2 e 17cm 3 . Cette valeur nous permet d’obtenir le même écart type<br />

<strong>de</strong> la distribution <strong>de</strong> tension <strong>de</strong> seuil que celle obtenue par simulations numériques [GSS-b].<br />

Pour le travail <strong>de</strong> sortie <strong>de</strong> grille (ϕ m ), nous considérerons un écart type <strong>de</strong> σ ϕm =20mV <strong>pour</strong> chaque<br />

architecture, ce qui nous permet d’obtenir les mêmes distributions statistiques <strong>de</strong> tension que celle<br />

obtenues par simulations numériques <strong>pour</strong> l’architecture conventionnelle sur substrat massif [GSS-b] et<br />

<strong>pour</strong> le Trigate [GSS-c].<br />

Les valeurs <strong>de</strong>s écarts types <strong>de</strong> chaque paramètre technologiques <strong>pour</strong> chaque architecture sont indiquées dans<br />

le tableau <strong>de</strong> la Figure V-21.<br />

Bulk FDSOI Trigate-A Trigate-B<br />

σ L<br />

(nm) 1 1 1.2 1<br />

σ tox<br />

(nm) 0.1 0.1 0.1 0.1<br />

σ tsi<br />

(nm) / 0.2 0.4 0.4<br />

σ hsi<br />

(m) / / 1.2 1.2<br />

σ W<br />

(nm) 1 1 / /<br />

σ ϕm<br />

(mV) 20 20 20 20<br />

σ Nch<br />

(cm-3) 2e17 / / /<br />

σ vt<br />

(mV) 41 20 22 28<br />

(mV) 390 287 222 257<br />

Figure V-21 : Valeur <strong>de</strong>s écarts types <strong>de</strong>s paramètres technologiques <strong>de</strong> chaque architecture.<br />

En entrant ces paramètres <strong>de</strong> variabilité dans MASTAR VA, et en lançant <strong>pour</strong> chaque architecture 500<br />

simulations avec génération aléatoire <strong>de</strong>s paramètres technologiques, on extrait les distributions statistiques <strong>de</strong><br />

tension <strong>de</strong> seuil, représentées sur la Figure V-22. Comme attendu, l’architecture conventionnelle sur substrat<br />

massif est la plus impactée par la variabilité, notamment à cause <strong>de</strong> son canal dopé. FDSOI et Trigate présentent<br />

quant à eux une robustesse à la variabilité comparable, bien que le Trigate-B soit pénalisé par sa longueur <strong>de</strong><br />

grille plus agressive. Il faut cependant remarquer que nous avons considéré un Trigate fabriqué sur substrat SOI,<br />

donc avec un canal non dopé. Or, [Auth 12] utilise <strong>de</strong>s Trigates fabriqués sur substrat massif conventionnel et ne<br />

<strong>pour</strong>ra présenter <strong>de</strong>s canaux non dopés à cause <strong>de</strong> la diffusion <strong>de</strong>s dopants <strong>de</strong> la couche <strong>de</strong> dopage anti-perçage<br />

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