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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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Chapitre VI: Comparaison <strong>de</strong>s <strong>performances</strong> logiques et SRAM au noeud 14-16nm.<br />

VI.B.4.<br />

Anneaux résonnants d’inverseur FO3 avec charge additionnelle <strong>de</strong><br />

sortie variable<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

Pour l’évaluation <strong>de</strong> performance dynamique au nœud 16nm, nous nous focaliserons sur les anneaux résonnants<br />

constitués d’inverseurs FO3 avec une charge en sortie <strong>de</strong> chaque étage comprise entre 0 et 10fF. Les inverseurs<br />

sont constitués <strong>de</strong> NMOS et <strong>de</strong> PMOS <strong>de</strong> même largeur, fixée à W=0.12µm en considérant une réduction <strong>de</strong> 30%<br />

par rapport au nœud 20nm. Les inverseurs utilisant l’architecture Trigate seront constitués <strong>de</strong> trois fins ce qui<br />

mène à une empreinte physique sur silicium W FootPrint = 120nm, et donc une largeur électrique W elec =168nm. Nous<br />

choisissons donc <strong>de</strong> ne pas étudier le comportement <strong>de</strong>s inverseurs FO1 car ces <strong>de</strong>rniers sont moins<br />

représentatifs <strong>de</strong> la performance réelle d’un circuit. De plus, <strong>pour</strong> ce nœud technologique, nous ne disposerons<br />

pas du chemin critique DDR3 car la conception <strong>de</strong> ce <strong>de</strong>rnier doit être effectuée <strong>pour</strong> chaque nœud<br />

technologique et n’a pas encore été faite par les équipes <strong>de</strong> conception. Enfin, <strong>pour</strong> la prise en compte du délai<br />

RC dû aux interconnexions <strong>de</strong>s niveaux <strong>de</strong> métallisation, nous utiliserons le même PEX (Parasitic EXtraction) que<br />

celui utilisé et développé <strong>pour</strong> le nœud 20nm (le PEX 14nm n’est pas encore disponible car les règles <strong>de</strong> <strong>de</strong>ssin et<br />

les matériaux <strong>de</strong>s niveaux <strong>de</strong> métallisation ne sont pas encore connus). Comme dans le chapitre précé<strong>de</strong>nt, et<br />

<strong>pour</strong> les mêmes raisons, nous effectuerons <strong>de</strong>s simulations avec polarisation <strong>de</strong> la face arrière à V dd uniquement<br />

<strong>pour</strong> l’architecture FDSOI. Au vue <strong>de</strong>s dimensions <strong>de</strong> cette architecture <strong>pour</strong> le nœud 14nm, le décalage <strong>de</strong><br />

tension <strong>de</strong> seuil sera <strong>de</strong> 100mV/V <strong>de</strong> polarisation <strong>de</strong> face arrière.<br />

Commençons par examiner le comportement en vitesse <strong>de</strong>s inverseurs FO3 en fonction <strong>de</strong> la tension<br />

d’alimentation V dd . La Figure VI-5-a représente la variation <strong>de</strong> fréquence d’un anneau résonnant FO3 sans charge<br />

en sortie. Comme dans le chapitre précé<strong>de</strong>nt, on remarque que l’architecture est pénalisée par ces capacités<br />

parasites. Cependant, <strong>pour</strong> les faibles tensions d’alimentation (V dd 5fF).<br />

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