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Développement de modèles pour l'évaluation des performances ...

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|Qsc| (C/m²)<br />

Chapitre I: Le transistor MOSFET: fonctionnement, miniaturisation et architectures.<br />

Pour un silicium <strong>de</strong> type N, les régimes <strong>de</strong> fonctionnement sont les mêmes, mais comme les charges changent <strong>de</strong><br />

signe (i.e les dopants ionisés sont <strong>de</strong>s donneurs et les porteurs minoritaires sont <strong>de</strong>s trous donc <strong>de</strong>s charges<br />

positives), les conditions sur le potentiel <strong>de</strong> surface sont modifiées. Par un raisonnement analogue, on a :<br />

Régime d’accumulation : ϕ s > 0<br />

Régime <strong>de</strong> déplétion : -ϕ f < ϕ s < 0<br />

Régime d’inversion : ϕ s < -2.ϕ f<br />

La Figure I-4 représente la variation <strong>de</strong> la valeur absolue <strong>de</strong> la charge dans le semiconducteur en échelle<br />

logarithmique en fonction <strong>de</strong> la valeur du potentiel <strong>de</strong> surface et met en évi<strong>de</strong>nce les trois régimes <strong>de</strong><br />

fonctionnement <strong>pour</strong> du silicium <strong>de</strong> type P. Pour tracer cette courbe, les expressions analytiques <strong>de</strong> la charge<br />

dans le semiconducteur <strong>pour</strong> chaque régime <strong>de</strong> fonctionnement sont nécessaires et sont obtenues par la<br />

résolution <strong>de</strong> l’équation <strong>de</strong> Poisson couplée aux distributions <strong>de</strong> porteurs. Les détails <strong>de</strong> calcul sont développés<br />

dans [Mathieu 04].<br />

5.0E+00<br />

tel-00820068, version 1 - 3 May 2013<br />

5.0E-01<br />

5.0E-02<br />

5.0E-03<br />

5.0E-04<br />

Accumulation<br />

Déplétion<br />

Inversion<br />

faible<br />

Inversion<br />

forte<br />

5.0E-05<br />

-0.5 0 0.5 1 1.5<br />

φs (V)<br />

Figure I-4 : Variation <strong>de</strong> la valeur absolue <strong>de</strong> la charge dans le semiconducteur (<strong>de</strong> type P) Q sc en fonction <strong>de</strong><br />

la valeur du potentiel <strong>de</strong> surface φ s, mettant en évi<strong>de</strong>nce les trois régimes <strong>de</strong> fonctionnement.<br />

Pour tracer la variation <strong>de</strong> charge en fonction <strong>de</strong> la tension effectivement appliquée sur la grille, il faut tenir<br />

compte du travail <strong>de</strong> sortie du métal, mais également <strong>de</strong> la chute <strong>de</strong> potentiel dans l’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> grille. Pour tenir<br />

compte du travail <strong>de</strong> sortie du métal, il faut évaluer la tension <strong>de</strong> ban<strong>de</strong>s plates, qui correspond à la tension <strong>de</strong><br />

grille à appliquer <strong>pour</strong> amener la structure MOS en régime <strong>de</strong> ban<strong>de</strong>s plates. Le régime dit <strong>de</strong> « ban<strong>de</strong>s plates »<br />

est atteint lorsque les ban<strong>de</strong>s d’énergie <strong>de</strong> la structure MOS sont plates. A partir du diagramme <strong>de</strong> ban<strong>de</strong>s<br />

d’énergie à l’équilibre thermodynamique, représenté sur la Figure I-5 dans le cas d’un NMOS, on obtient<br />

l’expression <strong>de</strong> la tension <strong>de</strong> ban<strong>de</strong>s plates V FB :<br />

Eq. I-1<br />

De manière duale, on obtient la tension <strong>de</strong> ban<strong>de</strong>s plates <strong>pour</strong> un PMOS :<br />

Eq. I-2<br />

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