mikroschemų technologijų analizė - Vilniaus Gedimino technikos ...
mikroschemų technologijų analizė - Vilniaus Gedimino technikos ...
mikroschemų technologijų analizė - Vilniaus Gedimino technikos ...
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
5. VIENPOLIŲ PLANARIŲJŲ SILICIO KMOP TRANZISTORIŲ GAMYBOS TECHNOLOGINIŲ PROCESŲ PROJEKTAVIMAS IR ANALIZĖ<br />
deposit name.resist=AZ1350J thickness=0.5 div=10<br />
layout lay.clear x.low=0 z.low=-4.0 x.high=10.5<br />
z.high=4.0<br />
image win.x.lo=-10.5 win.x.hi=10.5 win.z.lo=-4.25<br />
win.z.hi=4.25 dx=0.05 clear<br />
expose dose=150<br />
bake time=100 sec temp=120<br />
develop mack time=90 steps=15<br />
#material material=AZ1350J gamma.reflo=2e2 reflow<br />
visc.0=1.862e-13 visc.E=1.85<br />
#bake time=10 min temp=120 reflow<br />
# Implantavimo parametrų įkėlimas<br />
moments std_tables<br />
# 75 keV energijos, 5e12 dozės arseno implantacija<br />
implant arsenic energy=75 dose=5.0e12 pearson<br />
# Likusio fotorezisto pašalinimas<br />
etch name.resist=AZ1350J all<br />
# Gautos struktūros saugojimas<br />
structure outfile=lithography_5.str<br />
# Gautos struktūros atvaizdavimas<br />
tonyplot -st lithography_5.str -set settings.set<br />
Užtūros formavimas. Atlikus aprašytas operacijas plokštelės<br />
yra paruoštos užtūros dielektrikui formuoti. Tipiškai dielektrikas<br />
būna termiškai išaugintas SiO 2<br />
. Ši operacija turi būti atlikta<br />
gana kruopščiai, nes tai yra svarbiausia MOP technologinio proceso<br />
dalis. Mat nuo užtūros dielektriko kokybės priklauso pagrindiniai<br />
MOP tranzistorių parametrai. Šio dielektrinio sluoksnio<br />
užterštumas ir defektai sukelia krūvių koncentracijos tūryje<br />
88
Change language