Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektowÄ krzemu ...

[57] A. Szaynok, S. Kuźmiński, „Podstawy fizyki powierzchni półprzewodników”,Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, Warszawa (2000)[58] A. Oleś, „Metody doświadczalne fizyki ciała stałego”, Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, Warszawa (1998)[59] O. Auciello, R. Kelly, „Ion bombardment modification of surfaces: fundamentalsand applications”, Elsevier, Amsterdam (1984)[60] R. G. Wilson, F. A. Stevie, C. W. Magee, „Secondary ion mass spectrometry – a practicalhandbook for depth profiling and bulk impurity analysis”, John Wiley & Sons Inc., NowyYork (1989)[61] R. Jakieła, „Mechanizmy dyfuzji w półprzewodnikach A 3 B 5 ”, rozprawa doktorska,Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk, Warszawa (2004)[62] M. Ćwil, „Analiza profilowa heterostruktur warstwowych metodą spektrometrii masjonów wtórnych”, praca dyplomowa, Politechnika Warszawska, Wydział Fizyki,Warszawa (2003)[63] A. Misiuk, A. Barcz, J. Bak-Misiuk, P. Romanowski, L. Chow, E. Choi, Mat. Scienceand Eng. B 159-160 (2009) 361[64] A. Misiuk, A. Barcz, L. Chow, J. Bak-Misiuk, P. Romanowski, A. Shalimov, A. Wnuk,B. Surma, R. Vanfleet, M. Prujszczyk, High Pressure Physics and Technics 18 (4) (2008)105[65] K. Bowen, B. Tanner, „High-resolution X-ray diffraction and topography”, Teylor &Francis, Londyn (1998)[66] V. Holy, U. Pietsch, T. Baumbach, „High-resolution X-ray scattering from thin films andmultilayers”, Springer, Berlin (1999)[67] Z. Trzaska Durski, H. Trzaska Durska, „Podstawy krystalografii strukturalneji rentgenowskiej”, Państwowe Wydawnictwo Naukowe, Warszawa (1994)[68] T. Penkala, „Zarys krystalografii”, Państwowe Wydawnictwo Naukowe, Warszawa(1977)[69] P. Luger, „Rentgenografia strukturalna monokryształów”, Państwowe WydawnictwoNaukowe, Warszawa (1989)[70] „Materials Research Diffractometer user guide”, Philips Electronics N. V. (1993)[71] N. Kato, Acta Crysallogr. A 36 (1980) 763[72] A. Authier, „Dynamical theory of X-ray diffraction”, Oxford University Press, Oxford(2003)- 123 -