10.07.2015 Views

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

SHOW MORE
SHOW LESS
  • No tags were found...

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

7. Średni rozmiar i koncentracja defektów w próbkach Si:MnW celu uzupełnienia badań transmisyjnej mikroskopii elektronowej konieczne byłouzyskanie wiedzy <strong>na</strong> temat średniego rozmiaru i koncentracji defektów w badanych próbkach.Z<strong>na</strong>jomość tych parametrów jest istotnym aspektem dla charakteryzacji badanych strukturSi:Mn, gdyż ich wielkość ma wpływ <strong>na</strong> fizyczne własności materiałów. Skoro z<strong>na</strong>ne już sąlokalne rozmiary wydzieleń dla poszczególnych temperatur <strong>wygrzewania</strong>, <strong>na</strong>leżałowyz<strong>na</strong>czyć wielkości defektów struktury (wielkość pola odkształceń sieci krystalicznej) jakieone generują.W niniejszym rozdziale, tak jak w przypadku zdjęć TEM, a<strong>na</strong>lizowano próbkiCz-Si implantowane Mn + do zimnego i gorącego podłoża, oraz Fz-Si implantowanedo gorącego podłoża, wygrzewane w różnych temperaturach, ale tylko w czasiet A = 1h oraz ciśnieniu p A = 10 5 Pa.7.1. Metoda wyz<strong>na</strong>czania średniego rozmiaru i koncentracji defektów w kryształachW celu wyz<strong>na</strong>czenia średniego rozmiaru a także koncentracji defektów zastosowa<strong>na</strong>została metoda opisa<strong>na</strong> przez m.in. Patela [85] oraz Moreno [79] a opracowa<strong>na</strong> <strong>na</strong> podstawieteorii kinematycznej dla kryształów zawierających defekty [74-77].Rozpraszanie dyfuzyjne wokół węzła sieci odwrotnej (piku koherentnego) moż<strong>na</strong>podzielić <strong>na</strong> trzy obszary: Rozpraszanie Huanga, I H , w którym <strong>na</strong>tężenie I H (q) ∼ q -2 , gdzie q jest długością wektora→odchylenia ( q = q ). Jest to obszar rozpraszania <strong>na</strong>jbliższy pikowi braggowskiemu (małewartości wektora → q ), gdzie obserwuje się szczególnie duże <strong>na</strong>tężenia promieniowaniadyfuzyjnego. Natężenie rozpraszania dyfuzyjnego w obszarze Huanga jest proporcjo<strong>na</strong>lnedo liczby klasterów defektów a opisać je moż<strong>na</strong> <strong>na</strong>stępującym wyrażeniem [74,79]:2 2(2 ( ∆V) Q→ →IHq)= NdfΠ(m,n)(7.1)2v q2gdzie: N d – całkowita liczba klasterów defektów w oświetlonej promieniami X objętościkryształu; ∆V – zmia<strong>na</strong> objętości kryształu spowodowa<strong>na</strong> obecnością pojedynczegoklastera defektów; v – objętość komórki elementarnej; f – atomowy czynnik rozpraszania,- 83 -

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!