WpÅyw warunków wygrzewania na strukturÄ defektowÄ krzemu ...
WpÅyw warunków wygrzewania na strukturÄ defektowÄ krzemu ...
WpÅyw warunków wygrzewania na strukturÄ defektowÄ krzemu ...
- No tags were found...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
próbkom wygrzewanym w ciśnieniu p A = 10 5 Pa. Nie a<strong>na</strong>lizowano także próbekwygrzewanych w czasie większym niż 1 h, ponieważ wykazano wcześniej, że strukturadefektowa kształtuje się głównie w czasie pierwszej godziny <strong>wygrzewania</strong>. Zdjęcia TEMwyko<strong>na</strong>ne zostały dla próbek Si:Mn wygrzewanych w różnych temperaturach.Część próbek Si:Mn zbadano przy użyciu transmisyjnego mikroskopu elektronowegoJEM200EX firmy JEOL (rys. 6.2, z lewej) z<strong>na</strong>jdującego się w Instytucie Fizyki PANw Warszawie, którego budowa umożliwia obrazowanie z powiększeniem ok. milio<strong>na</strong> razy[83]. Zdjęcia pozostałych próbek wyko<strong>na</strong>ne zostały przy użyciu nowocześniejszej aparaturyTEM, a mianowicie Titan CUBED 80-300 firmy FEI (rys. 6.2, z prawej), który od niedaw<strong>na</strong>także z<strong>na</strong>jduje się <strong>na</strong> wyposażeniu Instytutu Fizyki PAN i którego rozdzielczość orazpowiększenie pozwalają <strong>na</strong> obrazowanie struktur wielkości rzędu pojedynczych atomów [84].Rys. 6.2. Transmisyjny mikroskop elektronowy JEM2000EX firmy JEOL (z lewej) orazTitan CUBED 80-300 firmy FEI (z prawej) w laboratorium SL1.4 Instytutu Fizyki PAN.6.3.1. Omówienie zdjęć TEM dla próbek Cz-Si:Mn (implantacja do zimnego podłoża)Wszystkie uzyskane dla próbek Si:Mn zdjęcia TEM potwierdzają, że w wynikuimplantacji mamy do czynienia ze strukturą trójwarstwową, <strong>na</strong> którą składa się warstwaprzestrzelo<strong>na</strong> jo<strong>na</strong>mi Mn, warstwa implantowa<strong>na</strong> Mn + (wzbogaco<strong>na</strong>), oraz monokrystalicznepodłoże Si. Metoda implantacji nie pozwala jed<strong>na</strong>k uzyskiwać interfejsów wysokiej jakości,co <strong>na</strong>jlepiej widać <strong>na</strong> zdjęciu 6.3 (a) uzyskanym dla próbki Cz-Si implantowanej Mn +do zimnego podłoża i wygrzanej w temperaturze T A = 610 K. Interfejs (międzypowierzchnia)- 78 -