10.07.2015 Views

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

Wpływ warunków wygrzewania na strukturę defektową krzemu ...

SHOW MORE
SHOW LESS
  • No tags were found...

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

4. Badania próbek Si:Mn z zastosowaniem spektroskopii masowej jonów wtórnychPrzy użyciu techniki SIMS („Secondary Ion Mass Spektrometry”) – spektroskopiimasowej jonów wtórnych, dla omawianych w rozprawie próbek Si:Mn przeprowadzonobadania mające <strong>na</strong> celu określenie zależności koncentracji manganu od głębokościw krysztale. Podobnie jak w przypadku poprzedniego rozdziału, charakterystyce takiejpoddane zostały próbki zarówno Cz-Si:Mn (implantacja do zimnego i gorącego podłoża),jak i Fz-Si:Mn (implantacja do gorącego podłoża), wygrzewane w różnych temperaturachoraz w niskich i podwyższonych ciśnieniach. Zaprezentowane i omówione zostanątzw. profile głębokościowe manganu dla próbek Si:Mn, w zależności od warunkówimplantacji, oraz parametrów poimplantacyjnego <strong>wygrzewania</strong>.4.1. Ogól<strong>na</strong> charakterystyka techniki SIMS dla pomiarów profili głębokościowychdomieszekSpektroskopia masowa jonów wtórnych, uważa<strong>na</strong> za jedną z <strong>na</strong>jbardziej czułychspośród metod a<strong>na</strong>lizy powierzchni, jest szeroko stosowaną techniką dla a<strong>na</strong>lizy składuchemicznego ciał stałych, pomiaru ilościowego i jakościowego pierwiastków śladowych orazdomieszek, w szczególności stosowa<strong>na</strong> dla półprzewodników i cienkich warstw.Podstawowym zjawiskiem, <strong>na</strong> którym opiera się SIMS, jest wtór<strong>na</strong> emisja jonowa, będącawynikiem bombardowania powierzchni próbki wiązką jonów pierwotnych (rys. 4.1) [1-5].W wyniku tego bombardowania <strong>na</strong>stępuje rozpylenie cząstek: elektronów, neutralnychatomów i grup atomów, dodatnich i ujemnych jonów wtórnych (zarówno atomowych,jak i utworzonych z grup atomów), a także fotonów. Metoda SIMS polega <strong>na</strong> pomiarzei a<strong>na</strong>lizie mas jonów wtórnych niosących informacje o składzie chemicznym warstwyprzypowierzchniowej.Typowe stanowisko badawcze SIMS składa się z <strong>na</strong>stępujących elementów: źródła jonów pierwotnych (wyrzutnia jonowa), a<strong>na</strong>lizatora mas jonów pierwotnych, układu formującego (ogniskującego) oraz przyspieszającego wiązkę, uchwytu trzymającego próbkę, układu soczewek przyspieszających jony wtórne, spektrometru mas dla a<strong>na</strong>lizy jonów wtórnych, w tym do pomiaru stosunku ich masydo ładunku (m/e),- 38 -

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!