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Beugung und Interferenz - Walther Meißner Institut

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Abschnitt 5.7 PHYSIK III 259120100N = 10Intensität8060402000.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0sinθAbbildung 5.39: Zur Veranschaulichung der Mehrstrahlinterferenz an einem Gitter. Gezeigt sind die <strong>Beugung</strong>smusterfür ein Gitter mit N = 10 Spalten für zwei unterschiedliche Wellenlängen a/λ 1 = 1 (rot) <strong>und</strong>a/λ 2 = 1.25 (blau). Der gewählte Wellenlängenunterschied entspricht dem von Abb. 5.38. Man erkennt,dass im Gegensatz zur Zweistrahlinterferenz in der Gesamtintensität (grün) die <strong>Beugung</strong>smuster derbeiden unterschiedlichen Wellenlängen deutlich erkennbar sind. Die Gesamtintensität ist aus Gründender Übersichtlichkeit um 20 nach oben verschoben.Wichtiger ist allerdings die Herstellung holographischer Gitter. Wie wir später sehen werden, sindHologramme im Wesentlichen komplizierte <strong>Beugung</strong>sgitter, sie können aber auch so entworfen werden,dass sie einfache <strong>Beugung</strong>sgitter darstellen. Die Entwicklung von hochwertigen Photolithographie-Techniken, wie sie heute in der Halbleitertechnologie eingesetzt werden, hat es ermöglicht, ein sehrfeines <strong>Interferenz</strong>muster zwischen zwei ebenen Wellen in einen Photolack zu belichten, wodurch mit einereinzigen Belichtung ein Gitter erzeugt wird, das tausende von feinen Linien enthält. Verwendet manz.B. zwei kohärente ebene Wellen, die von einem Laser mit der Wellenlänge 500 nm erzeugt werden<strong>und</strong> unter einem Winkel von 2α = 60 ◦ interferieren, so erzeugen diese ein Young’sches <strong>Beugung</strong>smustermit einem Linienabstand von λ/2sin α = 500 nm. Da die Laser-Linien sehr scharf sind, ist die Zahl derLinien sehr groß <strong>und</strong> es können Gitter mit einer Länge von mehreren Zentimetern mit einer Belichtungerzeugt werden. Bei dieser Herstellungsmethode werden Fehler in dem Abstand benachbarter Linien,wie sie bei mechanischen Herstellungsverfahren unvermeidbar sind, umgangen.Ein weiterer Vorteil der holographischen Gitter besteht darin, dass der Linienabstand in einer geplantenArt <strong>und</strong> Weise ungleichmäßig gemacht werden kann, um dadurch bekannte Abbildungsfehler von optischenSystemen auszugleichen. So kann z.B. ein selbstfokusierendes Gitter dadurch erzeugt werden,indem man als Ursprung für das Gitter die <strong>Interferenz</strong> von zwei Kugelwellen verwendet.GitterspektrometerDie in Gitterspektrometern eingesetzten <strong>Beugung</strong>sgitter sind meist Reflexionsgitter, die entweder durchRitzen einer optisch ebenen Oberfläche oder durch Holographie erzeugt werden. Bei letzteren wird dabeider Photolack in den belichteten Gebieten wegentwickelt <strong>und</strong> die freigelegte Oberfläche angeätzt. DieBedeutung der Reflexionsgitter kommt daher, dass sie einen hohen Lichtdurchsatz bei Abwesenheit vonFarbfehlern ermöglichen <strong>und</strong> dass sie generell Phasengitter sind, deren Effizienz, wie weiter unten gezeigtwird, sowohl in der Theorie als auch in der Praxis deutlich höher liegt als bei Transmissionsgittern.2003

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