Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
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tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />
Remerciem<strong>en</strong>ts<br />
Je remercie tout d’abord Messieurs Pascal ANCEY et Marc AÏD <strong>de</strong> m’avoir accueilli au sein<br />
<strong>de</strong> leur groupe respectif : l’équipe Above IC <strong>de</strong> STMicroelectronics et le groupe Composants<br />
Radio-Fréqu<strong>en</strong>ce du CEA-LETI.<br />
Je remercie Monsieur Christophe VALLEE, co-directeur <strong>de</strong> thèse avec Monsieur Olivier<br />
JOUBERT au Laboratoire <strong>de</strong>s Technologies <strong>de</strong> la Microélectronique, pour son <strong>en</strong>cadrem<strong>en</strong>t,<br />
son avis critique et ses bons conseils, particulièrem<strong>en</strong>t au cours <strong>de</strong> la rédaction <strong>de</strong> ce<br />
manuscrit.<br />
Je remercie tout particulièrem<strong>en</strong>t Monsieur Laur<strong>en</strong>t ULMER qui a initié et <strong>en</strong>cadré le début<br />
<strong>de</strong> cette thèse ainsi que Monsieur Emmanuel DEFAY qui a pris la suite <strong>de</strong> l’<strong>en</strong>cadrem<strong>en</strong>t<br />
avec un investissem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> tous les instants (même lors d’un ru<strong>de</strong> week-<strong>en</strong>d <strong>de</strong> décembre<br />
2004 !). Merci pour tous vos conseils, la motivation et la confiance que vous avez su<br />
m’apporter chacun <strong>à</strong> votre manière. Un grand merci aussi pour tous les bons mom<strong>en</strong>ts passés<br />
autour d’un thé, d’un gâteau…<br />
Je remercie très sincèrem<strong>en</strong>t messieurs Philippe GAUCHER et Mario MAGLIONE d’avoir<br />
accepté d’être les rapporteurs <strong>de</strong> mon travail <strong>de</strong> thèse.<br />
Je remercie les technici<strong>en</strong>s <strong>de</strong> STMicroelectronics et du LETI, D<strong>en</strong>is PELLISSIER-TANON,<br />
Stéphan AUBERT, David WOLOZAN, Fanny DELAGUILLAUMIE et Ludivine GALERA,<br />
pour l’ai<strong>de</strong> précieuse qu’ils m’ont apporté dans la réalisation <strong>de</strong> mes nombreux échantillons.<br />
Je remercie Françoise BAUME, Pierre et Bernard ANDRE qui m’ont initié au dépôt par<br />
pulvérisation par faisceau d’ions et m’ont été d’un grand souti<strong>en</strong> au cours <strong>de</strong> nos longues ( !)<br />
manips <strong>de</strong> dépôt.<br />
Un grand merci <strong>à</strong> toutes les équipes <strong>de</strong> caractérisation physico-chimiques et électriques du<br />
LETI et <strong>de</strong> STMicroelectronics : Guy ROLLAND, François PIERRE, Roland PANTEL,<br />
Serge BLONKOWSKI, Gérard PONTHENIER, Gérard TARTAVEL. Je remercie égalem<strong>en</strong>t<br />
Brice GAUTIER du Laboratoire <strong>de</strong> Physique <strong>de</strong> la Matière pour les expéri<strong>en</strong>ces d’AFM <strong>en</strong><br />
mo<strong>de</strong> TUNA réalisées <strong>à</strong> l’INSA <strong>de</strong> Lyon.<br />
Merci <strong>à</strong> tous ceux qui ont participé aux expéri<strong>en</strong>ces d’EXAFS mises <strong>en</strong> œuvre <strong>à</strong> l’ESRF,<br />
Xavier BIQUARD, D<strong>en</strong>is JALABERT, Guy ROLLAND, Emmanuel DEFAY, pour leur<br />
investissem<strong>en</strong>t (nuit et jour, même le we !), leur bonne humeur. Même dans la nuit du samedi<br />
au dimanche la sci<strong>en</strong>ce avance… Merci aussi <strong>à</strong> François RIEUTHORD pour les expéri<strong>en</strong>ces<br />
d’ano<strong>de</strong> tournante égalem<strong>en</strong>t réalisées <strong>à</strong> l’ESRF.<br />
Merci égalem<strong>en</strong>t <strong>à</strong> tous les membres <strong>de</strong>s équipes AIC et LCRF pour les bons mom<strong>en</strong>ts<br />
partagées : Fanny et Ludivine (mes technici<strong>en</strong>nes <strong>de</strong> choc !), Au<strong>de</strong>, Alex (mon coloc <strong>de</strong><br />
bureau préféré), Robert (merci pour ton humour, tes réflexions pleines <strong>de</strong> bon s<strong>en</strong>s et ta farine<br />
bio…), Stéphan (pour ton humour aussi ?!), Amy (merci pour tout !), Greg, Sandrine (on l’a<br />
fait !), Alex, Guillaume, Xavier et tous les autres (ne m’<strong>en</strong> veuillez pas si j’<strong>en</strong> oublie<br />
certains)… Vous avez tous contribué <strong>à</strong> r<strong>en</strong>dre ces trois années plus faciles.