Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...

tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007
Chapitre 2 : Elaboration de films minces de STO et BTO
sans polluer les substrats. Un thermocouple placé sur le porte-substrat permet de connaître
approximativement la température de l’échantillon.
La capacité maximale de traitement dans la chambre de dépôt d’un volume de 1 m 3 est de 4
plaques de 200 mm par expérience.
Le dispositif comporte également une baie de commande permettant de commander et régler
le débit des gaz dans l’enceinte, le canon de pulvérisation et le canon d’assistance, de choisir
la cible et la température de l’enceinte selon les besoins.
4.3.2. Paramètres de dépôt
Les débits gazeux sont choisis de façon à limiter la pression de travail et donc les interactions
entre les faisceaux et le gaz résiduel, tout en assurant un fonctionnement correct des sources
(courant ionique suffisant).
Afin de ne pas dégrader le porte-échantillon, la température de chauffage de la source est
limitée à 150°C pour éviter la dilatation des pièces.
La pulvérisation des cibles de pérovskites est assurée par des ions Xe + . La tension électrique
de décharge est choisie de façon à augmenter la probabilité d’ionisation du gaz sans pour
autant créer d’ions doublement chargés. Elle sera de 55 V environ pour du xénon.
5. Réalisation des capacités MIM
5.1. L’empilement
L’empilement complet est schématisé en Figure 2-24. Le matériau pérovskite (BTO ou STO)
est déposé sur un substrat composé de quatre couches :
• Le support,
• La barrière de diffusion,
• La couche d’accroche,
• L’électrode inférieure.
On dépose ensuite sur le diélectrique l’électrode supérieure en platine ou en or.
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