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flotox - Bibliothèque Ecole Centrale Lyon - École Centrale de Lyon

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IV.3. STRLETURE MOTOROLA (FEThOS)La structure FETMOS ("floating-gateélectron tunneling Mou "NOS à injection pareffet tunnel sur une grille flottante")proposée par MOTOROLA [1041 est une structure à grille flottante et àmécanisme d'injection <strong>de</strong> charges par effettunnel Fowler Nordheim. Lafigure 4-7 donne le schéma en coupelongitudinale <strong>de</strong> ce dispositif.Tout coe le dispositif HUGHES, le FETNOS s'apparentebeaucoup au Flotox. La différence entre le FETMOS et le Flotox rési<strong>de</strong>dans la position <strong>de</strong> l'oxy<strong>de</strong> mince :ce <strong>de</strong>rnier est situé entiàrementsur le canal pour le FETMOS.Le principe <strong>de</strong> fonctionnement en programmation du FETNOSest le suivant : pour injecter <strong>de</strong>s électrons sur la grille flottante("écriture"), une haute tension (20 V) est appliquée à la grille <strong>de</strong>contrôle, tandis que les drain et source du FETMOS sont à la masse (<strong>de</strong>même que le substrat qui est relié à la masse en permanence). Sousl'effet <strong>de</strong> cette tension (transmise par couplagecapacitif à la grilleflottante) <strong>de</strong>s électrons peuvent transiter par effettunnel FowlerNordheim à travers l'oxy<strong>de</strong> mince du substrat vers la grille flottante.Dans le cas inverse, afin <strong>de</strong> créer une charge positive surla grille flottante ("effacement") on applique une haute tension (20 V)au drain, tandis que la grille <strong>de</strong> contrôle est à la masse et la sourcepolarisée à + 5 V.

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