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flotox - Bibliothèque Ecole Centrale Lyon - École Centrale de Lyon

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Nous montrons aux figures 4-15 et 4-16 l'influence que peutavoir la hauteur <strong>de</strong> barrière sur la fenêtre mémoire pour <strong>de</strong>ux valeursdu temps <strong>de</strong> programmation : 1 ms (figure 4-15) et lo ms (figure 4-16)et pour le dispositif Flotox correspondant à la figure 4-13.Enfin, on notera que l'utilisation d'oxy<strong>de</strong> thermique obtenupar oxydation <strong>de</strong> silicium polycristallin permet d'obtenir <strong>de</strong>s valeurs<strong>de</strong> hauteur <strong>de</strong> barrière très faibles : elles peuvent varier entre 0,6 et2 e.v. ;toutefois, il semble très difficile d'obtenir une bonnereproductibilité <strong>de</strong> la valeur <strong>de</strong> la hauteur <strong>de</strong> barrière pour ce typed'oxy<strong>de</strong> (cela étant dû à la difficulté d'obtention d'une bonne reproductibilité<strong>de</strong> la croissance <strong>de</strong>s grainsà l'interface Si poly/oxy<strong>de</strong>).La figure 4-17 présente les fenêtres mémoires que l'on pourraitobtenir avec un tel diélectrique dans le cas du dispositif <strong>de</strong> lafigure 4-13 pour un temps <strong>de</strong> programmation <strong>de</strong> 10 ma et <strong>de</strong>s valeurs <strong>de</strong>tension <strong>de</strong> programmation inférieures à 10 V.

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