Bulletin 2009/06 - European Patent Office
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(G03F) II.1(1)<br />
Europäisches <strong>Patent</strong>blatt<br />
<strong>European</strong> <strong>Patent</strong> <strong>Bulletin</strong><br />
<strong>Bulletin</strong> européen des brevets<br />
<strong>Patent</strong>e<br />
<strong>Patent</strong>s<br />
Brevets (<strong>06</strong>/<strong>2009</strong>) 04.02.<strong>2009</strong><br />
(43) 30.05.2007<br />
(54) • Kassette für eine Speicherleuchtstoffplatte<br />
sowie Vorrichtung zur Entnahme der<br />
Speicherleuchtstoffplatte aus der Kassette<br />
• Cassette for a phosphor storage plate and<br />
device for removing the phosphor storage<br />
plate from the cassette<br />
• Cassette destinée à un disque fluorescent<br />
de mémoire tout comme dispositif destiné<br />
à la prise du disque fluorescent de<br />
mémoire à partir de la cassette<br />
(73) Agfa-Gevaert HealthCare GmbH, Kaiser-Wilhelm-Allee,<br />
51373 Leverkusen, DE<br />
(72) Hartmann, Thomas Dr., 82449 Uffing an<br />
Staffelsee, DE<br />
Kastl, Alfons, 85653 Aying, DE<br />
Schindlbeck, Günther, 81545 München, DE<br />
Loistl, Rudolf, 82008 Unterhaching, DE<br />
Ketterer, Hans, 85640 Putzbrunn, DE<br />
Butz, Otto, 85375 Neufahrn, DE<br />
Heinz, Jürgen, 87616 Marktoberdorf, DE<br />
Pirmann, Anton, 81243 München, DE<br />
(51) G03F 7/004 (11) 1 315 044 B1<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 02007431.6 (22) 28.03.2002<br />
(84) DE FR IT<br />
(43) 28.05.2003<br />
(30) 27.11.2001 JP 20013615<strong>06</strong><br />
(54) • Resistzusammensetzung und Verfahren zur<br />
Herstellung von Halbleiterbauelementen<br />
• Resist composition and method for manufacturing<br />
a semiconductor device using<br />
the resist composition<br />
• Composition de photoréserve et méthode<br />
de fabrication d'un dispositif semiconducteur<br />
(73) FUJITSU LIMITED, 1-1, Kamikodanaka 4-<br />
chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa<br />
211-8588, JP<br />
(72) Kon, Junichi, Kawasaki-shi, Kanagawa, 211-<br />
8588, JP<br />
Yano, Ei, Kawasaki-shi, Kanagawa, 211-<br />
8588, JP<br />
(74) Körfer, Thomas, et al, Mitscherlich & Partner<br />
<strong>Patent</strong>- und Rechtsanwälte Postfach 33 <strong>06</strong><br />
09, 80<strong>06</strong>6 München, DE<br />
(51) G03F 7/004 (11) 1 326 137 B1<br />
C03C 8/16 C03C 8/14<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 03000874.2 (22) 19.01.2000<br />
(84) DE FR GB<br />
(43) 09.07.2003<br />
(30) 27.01.1999 JP 1870399<br />
17.09.1999 JP 26399399<br />
(54) • Lichtempfindliche, elektrisch isolierende<br />
Paste und Mehrschicht-Leiterplatte mit<br />
dicken Beschichtungen<br />
• Photosensitive insulating paste and thickfilm<br />
multi-layer circuit substrate<br />
• Pâte isolante photosensible et substrat<br />
pour circuit multicouche à couches épaisses<br />
(73) MURATA MANUFACTURING CO., LTD., 10-<br />
1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi,<br />
Kyoto 617-8555, JP<br />
(72) Tose, Makoto, Nagaokakyo-shi, Kyoto-fu<br />
617-8555, JP<br />
Kawakami, Hiromichi, Nagaokakyo-shi,<br />
Kyoto-fu 617-8555, JP<br />
Watanabe, Shizuharu, Nagaokakyo-shi,<br />
Kyoto-fu 617-8555, JP<br />
Iha, Michiaki, Nagaokakyo-shi, Kyoto-fu 617-<br />
8555, JP<br />
(74) Zinnecker, Armin, et al, Lorenz-Seidler-Gossel,<br />
Widenmayerstrasse 23, 80538 München,<br />
DE<br />
(62) 00101004.0 / 1 024 405<br />
G03F 7/029 → (51) G03F 7/105<br />
(51) G03F 7/031 (11) 1 698 934 B1<br />
G03F 7/033<br />
(25) En (26) En<br />
(21) <strong>06</strong>004382.5 (22) 03.03.20<strong>06</strong><br />
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB<br />
GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO<br />
SE SI SK TR<br />
(43) <strong>06</strong>.09.20<strong>06</strong><br />
(30) 03.03.2005 JP 2005059193<br />
(54) • Lithographischer Druckplattenvorläufer<br />
• Lithographic printing plate precursor<br />
• Précurseur de plaque d'impression lithographique<br />
(73) FUJIFILM Corporation, 26-30, Nishiazabu 2-<br />
chome, Minato-ku Tokyo, JP<br />
(72) Inno, Toshifumi, Yoshida-cho, Haibara-gun,<br />
Shizuoka, JP<br />
(74) HOFFMANN EITLE, <strong>Patent</strong>- und Rechtsanwälte<br />
Arabellastrasse 4, 81925 München, DE<br />
G03F 7/033 → (51) G03F 7/031<br />
G03F 7/09 → (51) G03F 7/32<br />
(51) G03F 7/105 (11) 1 251 400 B1<br />
G03F 7/029<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 02252774.1 (22) 19.04.2002<br />
(84) DE FR GB<br />
(43) 23.10.2002<br />
(30) 20.04.2001 US 839803<br />
(54) • Photopolymerisierbares Element zur<br />
Benutzung als flexographische Druckplatte<br />
und Verfahren zur Herstellung der Platte<br />
aus dem Element<br />
• A photopolymerizable element for use as a<br />
flexographic printing plate and a process<br />
for preparing the plate from the element<br />
• Elément photopolmerisable pour l'utilisation<br />
comme plaque d'impression flexographique<br />
et procédé pour la fabrication de la<br />
plaque à partir de l' élément<br />
(73) E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COM-<br />
PANY, 1007 Market Street, Wilmington, DE<br />
19898, US<br />
(72) Lungu, Adrian, Old Bridge, New Jersey<br />
08857, US<br />
(74) Towler, Philip Dean, Frank B. Dehn & Co. St<br />
Bride's House 10 Salisbury Square, London<br />
EC4Y 8JD, GB<br />
(51) G03F 7/18 (11) 1 771 772 B1<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 057601<strong>06</strong>.4 (22) <strong>06</strong>.07.2005<br />
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB<br />
GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO<br />
SE SI SK TR<br />
(43) 11.04.2007<br />
(86) JP 2005/012879 <strong>06</strong>.07.2005<br />
(87) WO 20<strong>06</strong>/004225 20<strong>06</strong>/02 12.01.20<strong>06</strong><br />
(30) <strong>06</strong>.07.2004 JP 2004199886<br />
25.08.2004 JP 2004245816<br />
(54) • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES<br />
LICHTEMPFINDLICHEN LAMINIERTEN<br />
KÖRPERS UND VORRICHTUNG DAFÜR<br />
• METHOD OF MANUFACTURING PHOTO-<br />
SENSITIVE LAMINATED BODY AND<br />
APPARATUS THEREFOR<br />
• APPAREIL ET PROCEDE POUR LA FABRI-<br />
CATION D'UN CORPS STRATIFIE PHOTO-<br />
DENSIBLE<br />
(73) FUJIFILM Corporation, 26-30, Nishiazabu 2-<br />
chome, Minato-ku Tokyo, JP<br />
(72) SUEHARA, Kazuyoshi, Fujinomiya-shi, Shizuoka<br />
4188666, JP<br />
AKIYOSHI, Nobuyasu, Fujinomiya-shi, Shizuoka<br />
4188666, JP<br />
IMOTO, Kenichi, Fujinomiya-shi, Shizuoka<br />
4188666, JP<br />
MORI, Ryo, Fujinomiya-shi, Shizuoka<br />
4188666, JP<br />
SUZUKI, Chiaki, Minami-ashigara-shi, Kanagawa<br />
250-0193, JP<br />
SUGIHARA, Ryoichi, Fujinomiya-shi, Shizuoka<br />
4188666, JP<br />
(74) Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser<br />
Anwaltssozietät, Leopoldstrasse 4,<br />
80802 München, DE<br />
(51) G03F 7/20 (11) 1 349 009 B1<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 03251611.4 (22) 17.03.2003<br />
(84) DE FR GB IT NL<br />
(43) 01.10.2003<br />
(30) 18.03.2002 EP 02251933<br />
(54) • Lithographischer Apparat und Verfahren<br />
zur Herstellung eines Artikels<br />
• Lithographic apparatus and device manufacturing<br />
method<br />
• Appareil lithographique et méthode pour la<br />
fabrication d'un dispositif<br />
(73) ASML Netherlands B.V., De Run 6501, 5504<br />
DR Veldhoven, NL<br />
(72) Dierichs, Marcel Mathijs Theodore Marie,<br />
5914 WR Venlo, NL<br />
(74) Leeming, John Gerard, J.A. Kemp & Co. 14<br />
South Square Gray's Inn, London WC1R 5JJ,<br />
GB<br />
(60) 07018092.2 / 1 870 772<br />
(51) G03F 7/32 (11) 1 788 450 B1<br />
G03F 7/09<br />
(25) En (26) En<br />
(21) 05110915.5 (22) 18.11.2005<br />
(84) AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB<br />
GR HU IE IS IT LI LT LU LV MC NL PL PT RO<br />
SE SI SK TR<br />
(43) 23.05.2007<br />
(54) • Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform<br />
• Method of making a lithographic printing<br />
plate<br />
• Procédé de fabrication d'une plaque d'impression<br />
lithographique<br />
(73) Agfa Graphics N.V., Septestraat 27, 2640<br />
Mortsel, BE<br />
(72) Van Damme, Marc, c/o AGFA-GEVAERT,<br />
2640, Mortsel, BE<br />
(74) Goedeweeck, Rudi, et al, Agfa Graphics N.V.<br />
IP Department 3622 Septestraat 27, 2640<br />
Mortsel, BE<br />
(51) G03F 9/00 (11) 1 804 126 B1<br />
(25) En (26) En<br />
(21) <strong>06</strong>256399.4 (22) 15.12.20<strong>06</strong><br />
(84) DE FR GB IT NL<br />
(43) 04.07.2007<br />
(30) 30.12.2005 US 321446<br />
(54) • Optisches metrologisches System und<br />
Charakterisierungsverfahren für eine Metrologiemarke<br />
• An optical metrology system and metrology<br />
mark characterization method<br />
• Système de métrologie optique et méthode<br />
de caractérisation de marque de métrologie<br />
(73) ASML Netherlands B.V., De Run 6501, 5504<br />
DR Veldhoven, NL<br />
(72) Van Der AA, Nicolaas Petrus, 5701 TP<br />
Helmond, NL<br />
Den Boef, Arie Jeffrey, 5581 NA Waalre, NL<br />
Mattheij, Robert Martinus Maria, 5708 AT<br />
Helmond, NL<br />
Ter Morsche, Henricus Gerhardus, 5665 ED<br />
Geldrop, NL<br />
239
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