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AKADEMIE DER WISSENSCHAFTEN DER DDR ZfK ...

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4. ANWENDUNG KERNPHYSIKALISCHER METHODEN<br />

Der Umfang der Untersuchungen, die mit Hilfe kernphysikalischer Methoden zu<br />

festkörperphysikalischen Problemen durchgeführt wurden, hat sich im Berichtszeitraum<br />

gegenüber dem letzten Berichtsabschnitt beträchtlich erweitert. Die<br />

folgenden Kurzberichte enthalten Ergebnisse, die im <strong>ZfK</strong> Rossendorf, der FSU<br />

Jena, der BA Freiberg, der KMÜ Leipzig und der TU Dresden erzielt worden sind.<br />

Mit Hilfe gestörter Winkelkorrelationen wurden an einer Reihe von Metallegierungen<br />

Quadrupolwechselwirkungen und deren Abhängigkeit von der Temperatur, vom<br />

prozentualen Anteil der Komponenten und von Verunreinigungen bestimmt sowie erste<br />

Messungen zur Überprüfung des Einflusses von Phasenübergängen auf den zeitabhänr<br />

gigen Anisotropiekoeffizienten durchgeführt.<br />

Weitere Ergebnisse zur Anregung von Röntgenstrahlung in Si mit Protonen von 2<br />

bis 8 MeV und an biologischen Substanzen mit Müonen am Synchrozyklotron im VIK<br />

Dubna werden mitgeteilt.<br />

Rückstreumessungen, unter Ausnutzung des Kanalisierungs- und Schatteneffekts,<br />

sind zur Bestimmung von Eigenschaften metallischer Einkristalle, halbleitender<br />

Verbindungen und isolierender Schichten sowie zur Untersuchung von Strahlenschäden<br />

implantierter Silizium-Einkristalle eingesetzt worden. Uber die Art und<br />

das Verhalten von Strahlenschäden in Abhängigkeit von Implantationsdosis, Ionenart,<br />

Implantations- und Ausheiltemperatur konnten in Verbindung mit anderen Meßmethoden<br />

bestehende Vorstellungen erweitert werden.<br />

Die Arbeiten zur Ionenimplantation erstreckten sich von Messungen der Implantationsprofile,<br />

Bestimmung der Lage von pn-Übergängen mit der Rasterelektronenmikroskopie,<br />

Untersuchung von Strahlenschäden, röntgentopografische Untersuchungen,<br />

Fragen der Rückstoßimplantation und anderen Messungen bis zur elektrischen<br />

und optischen Untersuchung implantierter Strukturen in Silizium.<br />

4.1. BERECHNUNG <strong>DER</strong> AXIALEN DEKANALISIERUNG<br />

U. Finger, K. Gärtner und K. Hehl<br />

Friedrich-Schiller-Universität Jena, Sektion Physik<br />

K. Hohmuth<br />

Die tiefenabhängige Ausbeute an rückgestr«uten Ionen berechnet sich mittels der<br />

querenergieabhängigen Trefferwahrscheinlichkeit TT ¿n(E ) aus der Verteilung der<br />

Querenergien in der entsprechenden Tiefe t zu<br />

oo<br />

X(t) = $ g(E± ,t) Orin(Ei)dE1 .<br />

0<br />

Für kleine Querenergieänderungen beim Einzelstoß kann nach Lindhard [1] und<br />

Bonderup et al. [2] die tiefenabhängige Verteilung der Querenergien g(E^,t)<br />

durch eine Diffusionsgleichung mit der Diffusionsfuhktion D(E_l ) beschrieben<br />

werden. Die Diffusionsfunktion setzt sich im ungestörten Kristall additiv aus<br />

den Beiträgen durch Vielfachstreuung an den Elektronen und den thermisch ausgelenkten<br />

Gitteratomen zusammen.

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