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Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

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6 INTEGRATION VON METHYL-SILSESQUIOXAN<br />

(Abbildung 6.2 c).<br />

Zur Überprüfung der Funktionalität hergestellter Mikro- und Nanostrukturen wurden<br />

elektrische Messungen durchgeführt. Dazu wurde ein Agilent B1500A Semiconductor<br />

Device Analyser in Kombination mit <strong>einer</strong> halbautomatischen „Probestation“ der Firma<br />

Süss Microtec eingesetzt. Die Probestation wurde zur Kontaktierung der Bauelemente<br />

mit Hilfe von Messnadeln verwendet. Dabei wurden <strong>die</strong> Wolfram-Messnadeln mit<br />

einem Spitzenradius von ~ 5 μm auf <strong>die</strong> Kontaktflächen (100 μm x 100 μm) der<br />

Crossbar-Strukturen abgesetzt. Der Probentisch sowie ein Nadelarm konnten über den<br />

Steuerungsrechner automatisch verfahren werden.<br />

Es wurden zunächst quasistatische Messungen sowohl an Mikro- als auch an den Nano-<br />

Einzelkreuzstrukturen durchgeführt (siehe Abbildung 6.3 a).<br />

Top<br />

a)<br />

Bottom<br />

2500 nm<br />

Abbildung 6.3:<br />

a) Einzelkreuzstruktur<br />

100 nm x 100 nm,<br />

b) I(U)-Kennlinie <strong>einer</strong> quasistatischen<br />

Messung an <strong>einer</strong> 3 μm x 3 μm<br />

Einzelkreuzstruktur,<br />

c) I(U)-Kennlinie <strong>einer</strong> quasistatischen<br />

Messung an <strong>einer</strong> 100 nm x 100 nm<br />

Einzelkreuzstruktur. Die Schalt-richtung<br />

ist durch Pfeile gekennzeichnet.<br />

100<br />

100<br />

Strom [μA]<br />

50<br />

0<br />

-50<br />

Strom [μA]<br />

50<br />

0<br />

-50<br />

-100<br />

-0.5 0.5<br />

Spannung [V]<br />

1.5<br />

b)<br />

-100<br />

-1 0 1 2<br />

Spannung [V]<br />

c)<br />

93

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