Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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6 INTEGRATION VON METHYL-SILSESQUIOXAN<br />
(Abbildung 6.2 c).<br />
Zur Überprüfung der Funktionalität hergestellter Mikro- und Nanostrukturen wurden<br />
elektrische Messungen durchgeführt. Dazu wurde ein Agilent B1500A Semiconductor<br />
Device Analyser in Kombination mit <strong>einer</strong> halbautomatischen „Probestation“ der Firma<br />
Süss Microtec eingesetzt. Die Probestation wurde zur Kontaktierung der Bauelemente<br />
mit Hilfe von Messnadeln verwendet. Dabei wurden <strong>die</strong> Wolfram-Messnadeln mit<br />
einem Spitzenradius von ~ 5 μm auf <strong>die</strong> Kontaktflächen (100 μm x 100 μm) der<br />
Crossbar-Strukturen abgesetzt. Der Probentisch sowie ein Nadelarm konnten über den<br />
Steuerungsrechner automatisch verfahren werden.<br />
Es wurden zunächst quasistatische Messungen sowohl an Mikro- als auch an den Nano-<br />
Einzelkreuzstrukturen durchgeführt (siehe Abbildung 6.3 a).<br />
Top<br />
a)<br />
Bottom<br />
2500 nm<br />
Abbildung 6.3:<br />
a) Einzelkreuzstruktur<br />
100 nm x 100 nm,<br />
b) I(U)-Kennlinie <strong>einer</strong> quasistatischen<br />
Messung an <strong>einer</strong> 3 μm x 3 μm<br />
Einzelkreuzstruktur,<br />
c) I(U)-Kennlinie <strong>einer</strong> quasistatischen<br />
Messung an <strong>einer</strong> 100 nm x 100 nm<br />
Einzelkreuzstruktur. Die Schalt-richtung<br />
ist durch Pfeile gekennzeichnet.<br />
100<br />
100<br />
Strom [μA]<br />
50<br />
0<br />
-50<br />
Strom [μA]<br />
50<br />
0<br />
-50<br />
-100<br />
-0.5 0.5<br />
Spannung [V]<br />
1.5<br />
b)<br />
-100<br />
-1 0 1 2<br />
Spannung [V]<br />
c)<br />
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