Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
Sie wollen auch ein ePaper? Erhöhen Sie die Reichweite Ihrer Titel.
YUMPU macht aus Druck-PDFs automatisch weboptimierte ePaper, die Google liebt.
Anhang - Prozessparameter<br />
Elektronenstrahl-Lithographie<br />
Lack : Allresist PMMA – AR-P 641.04 (200K)<br />
30 s @ 4000 rpm, 2 min @ 180°C<br />
Dosis : 500 μC/cm 2<br />
Schrittweite : 5 nm<br />
Strom : 1 nA<br />
<strong>Entwicklung</strong> : 60 s in AR-600 55 + 3 min in Isopropanol (<strong>Entwicklung</strong>sstopp)<br />
UV-Nanoimprint-Lithographie<br />
Haftvermittler : Ti-Prime (MicroChemicals)<br />
60 s @ 3000 rpm, 2 min @ 120°C<br />
Lack : NXR2010 + Methylmethacrylat (1:1), Feststoffgehalt 1,5 %<br />
60 s @ 3000 rpm, Kein Ausheizen<br />
UV-NIL<br />
Abpumpen : 20 sec<br />
Pre-Imprint : 100 psi<br />
Main-Imprint : 550 psi<br />
Imprint-Zeit : 10 min darin, enthalten 4 min Belichtungszeit<br />
Temperatur : Raumtemperatur<br />
Methyl-Silsesquioxan<br />
MSQ : Accuglass T111, Honeywell<br />
Aufschleudern : 30 s @ 2000 rpm<br />
Ausheizen : jeweils 2 min @ 80°C + 150°C + 250°C<br />
Härten : 60 min @ 425°C unter N 2 (Rapid Thermal Annealing)<br />
Lagerung : Kühlschrank 8 – 12°C<br />
Aufwärmen : mind. 90 min auf Raumtemperatur vor der Verarbeitung<br />
125
Change language