Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN
initialen Lackdicke wurden an unbedruckten Proben durchgeführt. Die Messungen des
Residual-Layer wurden im Elektrodenzentrum an den Nanostrukturen durchgeführt
(vgl. Abbildung 4.12). Es ist zu erkennen, dass die Dicke des Resisdual-Layers stets um
einen konstanten Wert von ~ 10 nm geringer ausfällt als die initiale Lackdicke,
unabhängig vom Feststoffgehalt des Lacks. Dies gilt allerdings nur im Fall der
Elektrodenstrukturen für Crossbar-Arrays im Zentrum, also an den Nanostrukturen.
Wird ein größerer Bereich betrachtet, so ist eine inhomogene Verteilung des Residual-
Layers zu erkennen. In Abbildung 4.16 ist eine Rasterelektronenmikroskop (REM) -
Aufnahme einer 8 bit Elektroden-Struktur nach einem Beakthrough-Etch dargestellt.
Lackdicke [nm]
100
80
60
40
20
Initiale Lackdicke
Residual-Layer
Metall
Lackstrukturen
Restlack
0
0,5 1,5 2,5 3,5
Fesstoffgehalt [%]
Abbildung 4.15: Messungen von initialer
Lackdicke nach dem Aufschleudern und des
Residual-Layers an Nanostrukturen
abhängig vom Feststoffgehalt des
verdünnten NX-2010.
1 mm
Abbildung 4.16: Residual-Layer-Verteilung
nach dem Breakthrough-Etch über einen
makroskopischen Bereich.
Deutlich ist zu erkennen, dass im näheren Umfeld der Elektrodenstrukturen nach dem
Ätzen bereits das Elektrodenmetall (helle Fläche), welches sich unter dem Residual-
Layer befand, zum Vorschein kommt. An dieser Stelle ist also die Residual-Schicht
durch den Breakthrough-Prozess vollständig entfernt, nur die Elektrodenstrukturen
(dunkle Strukturen), bestehend aus UV-Lack, sind erhalten geblieben. Im weiter
entfernten Umfeld der Elektrodenstrukturen nimmt die Helligkeit in der REM-
Aufnahme jedoch wieder ab. Hier befindet sich Restlack, der durch den Ätzprozess
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