Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER
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2 DIE ENTWICKLUNG DER SPEICHERTECHNOLOGIE<br />
erzeugt (RESET 1 → 0). Die kristalline Phase entsteht, wenn Chalkogenide auf eine<br />
Temperatur zwischen Glasübergangs- und Schmelztemperatur aufgeheizt werden<br />
(SET 0 → 1). Die Schreibzeiten der unterschiedlichen Phasen befinden sich zwischen<br />
100 ns und 300 ns. Ein Schreibschema ist in Abbildung 2.5 dargestellt. Die Ströme, <strong>die</strong><br />
zum Schreiben der Zustände benötigt werden, liegen im Milliampere-Bereich, was sich<br />
<strong>für</strong> <strong>die</strong> Leistungsaufnahme der Bauelemente nachteilig auswirkt. Positiv ist hingegen<br />
<strong>die</strong> Eigenschaft der Skalierbarkeit von PCRAM, welche <strong>die</strong> Herstellung von<br />
Speicherbauteilen der zukünftigen Technologieknoten (< 32 nm) zulässt [42].<br />
T Schmelz<br />
Temperatur<br />
RESET<br />
T Glas<br />
SET<br />
amorph<br />
kristallin<br />
Zeit<br />
Abbildung 2.5: Schreibschema eines PCRAM.<br />
RRAM können durch <strong>die</strong> Verwendung <strong>einer</strong> Vielzahl an Materialien realisiert werden.<br />
Sowohl chalkogenide Gläser als auch binäre und ternäre Oxide werden in Kondensator-<br />
Strukturen integriert, um resistiv schaltende Elemente herzustellen [45 - 47]. Der<br />
Kondensator wird durch anlegen adäquater Spannungen zwischen zwei<br />
Widerstandszuständen geschaltet. Die Speicherzustände sind nicht-flüchtig und können<br />
(bei einigen Materialien) innerhalb weniger Nanosekunden geschrieben werden.<br />
Außerdem zeigen einige der resisitiven Materialien Multi-Bit-Eigenschaften, welches<br />
sich vorteilhaft auf <strong>die</strong> Integrationsdichte auswirkt. RRAM ist skalierbar und<br />
dementsprechend zu den anderen Konzepten nächster Technologieknoten<br />
konkurrenzfähig. Die Grundlagen des resistiven Schaltens werden im folgenden Kapitel<br />
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