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Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

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6 INTEGRATION VON METHYL-SILSESQUIOXAN<br />

mit Ag ein schaltfähiges System bildet.<br />

Der Versuchsaufbau der Lateralstrukturen ist in Abbildung 6.7 schematisch dargestellt.<br />

I<br />

U<br />

Ag<br />

MSQ<br />

Substrat<br />

Ag<br />

Abbildung 6.7: Lateralstruktur bestehend aus zwei Ag-Elektroden, zwischen denen<br />

sich MSQ befindet. Eine elektrische Spannung <strong>die</strong>nt dem Ag-Pfad Wachstums.<br />

Es wurden Ag-Elektroden auf einem Si-Substrat mittels optischer Lithographie<br />

hergestellt. Anschließend wurde MSQ aufgebracht, welches sich nach der Deposition<br />

sowohl auf als auch zwischen den Elektroden befand. Für <strong>die</strong> elektrische Kontaktierung<br />

wurden <strong>die</strong> Kontaktflächen der Lateralstrukturen in einem Trockenätzverfahren<br />

freigelegt. So konnte zwischen den Ag-Elektroden eine elektrische Spannung angelegt<br />

werden, um einen metallischen Pfad lateral durch <strong>die</strong> MSQ-Schicht wachsen lassen zu<br />

können. Abbildung 6.8 zeigt <strong>die</strong> REM-Aufnahme <strong>einer</strong> Lateralstruktur nach <strong>einer</strong><br />

Spannungsbelastung von 20 V.<br />

Es ist zu erkennen, dass sich zwischen der oberen und der unteren Ag-Elektrode ein<br />

metallischer Pfad ausgebildet hat. Bei der elektrischen Messung (Abbildung 6.8 unten)<br />

wurde bei der konstanten Spannungsversorgung ein sprunghafter Stromanstieg von<br />

~ 200 pA auf 0,5 mA (Strombegrenzung) nach 57 s festgestellt. Dies entsprach einem<br />

Formierungsschritt. Die Spannung wurde aufgrund des großen Abstandes beider<br />

Elektroden von mehreren Mikrometern höher gewählt als <strong>die</strong> Formierungsspannung der<br />

zuvor gezeigten, vertikalen Crossbar-Strukturen.<br />

Die Form des hier ausgebildeten Pfades lässt nicht auf <strong>die</strong> Form der Pfade in den<br />

Crossbar-Strukturen schließen. Die Detailaufnahme (oben rechts Abbildung 6.8) gibt<br />

keinen eindeutigen Hinweis auf <strong>die</strong> Struktur des Metallpfades, der sich über <strong>die</strong> letzten<br />

Nanometer zwischen den Elektroden erstreckt. Für ein klares Bild reichen hier sowohl<br />

<strong>die</strong> REM-Auflösung als auch der Materialkontrast und <strong>die</strong> Tiefenschärfe nicht aus.<br />

Es konnte somit anhand der Experimente gezeigt werden, dass der Schaltvorgang in<br />

PT/MSQ/Ag-Zellen höchst wahrscheinlich auf <strong>die</strong> Ausbildung von Ag-Pfaden durch <strong>die</strong><br />

MSQ-Schicht zurückzuführen ist. Allerdings konnte nicht nachgewiesen werden, ob es<br />

sich bei den Metallpfaden um eine eher filamentäre oder dendritenartige Struktur<br />

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