Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN
von bis zu ~ 20 nm bei einer Enddrehzahl von 3000 rpm und einer Beschleunigung von
3000 rpm/s erzielt werden. Es sollte sich im weiteren Versuchsverlauf herausstellen,
dass die Lackverdünnung, welche eine Reduzierung der Resildual-Layer-Dicken
impliziert, ein notwendiges Werkzeug für die erfolgreiche Herstellung von
Nanoelektroden darstellt (Kapitel 4.2.3).
Abbildung 4.14: Aufschleuderkurve des NX-2010, Quelle: Nanonex.
4.2.3 Residual-Layer und Fülleffekte
Die Residual-Layer-Dicke ist ein bedeutender Parameter der Imprint-Technologie. Sie
sollte möglichst gering gewählt werden, da die Güte des nachfolgenden Breakthrough-
Etching (siehe Kapitel 2, Abbildung 2.1 e,l) maßgeblich von der Dicke des Residual-
Layer abhängt. Dabei gilt: je dicker die Residual-Schicht, desto länger der Ätzprozess
und desto größer sind die lateralen Strukturverluste durch chemische Ätzabtragungen an
den Seiten der Lackstrukturen (siehe Kapitel 4.2.5). Da die Schichtdicke des Residual-
Layer von der initial aufgebrachten Lackdicke abhängt, konnte diese durch die
Verdünnung der Lacklösung eingestellt werden. Abbildung 4.15 zeigt die
Abhängigkeiten von initialer Lack- und Residual-Layer-Dicke vom Feststoffgehalt des
NX-2010. Die Werte wurden durch Ellipsometriemessungen und Messungen an
Probenquerschnitten im Rasterelektronenmikroskop ermittelt. Die Messungen der
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