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Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...

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tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />

Chapitre 3 : <strong>Etu<strong>de</strong></strong> <strong>de</strong> <strong>capacités</strong> MIM <strong>à</strong> <strong>base</strong> <strong>de</strong> STO et BTO<br />

1e18<br />

1e17<br />

1e16<br />

1e15<br />

1e14<br />

Log (Counts) 1e13<br />

N°13<br />

N°12<br />

N°11<br />

N°10<br />

N°9<br />

N°8<br />

N°7<br />

N°6<br />

N°5<br />

N°4<br />

N°3<br />

N°2<br />

N°1<br />

110<br />

Pt 111<br />

200<br />

10 20 30 40 50 60 70 80 90 100<br />

2-Theta - Scale<br />

211 Si<br />

Figure 3-17 : Spectres <strong>de</strong> diffraction θ-2θ <strong>de</strong>s échantillons <strong>de</strong> STO recuits <strong>à</strong> 650°C. Les pics du Pt et du Si<br />

sont dus au substrat.<br />

Si<br />

Pt 222<br />

Tableau 3-17 : Données issues <strong>de</strong>s caractérisations <strong>de</strong> diffraction X analysées <strong>à</strong> l’ai<strong>de</strong> du logiciel<br />

LUMIERE<br />

n° échantillons Position pic 211 °<br />

Facteur<br />

d’ori<strong>en</strong>tation<br />

1 57,88 19,2<br />

2 57,90 15,2<br />

3 57,94 15,7<br />

4 57,93 15,9<br />

5 57,79 13,2<br />

6 57,87 24,2<br />

7 57,96 18<br />

8 57,94 15,6<br />

9 57,88 13,5<br />

10 57,96 18<br />

11 57,91 14,1<br />

12 57,88 28,6<br />

13 57,91 13,7<br />

128

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