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Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...

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tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />

Chapitre 4 : Li<strong>en</strong> <strong>en</strong>tre structure cristallographique et propriétés électriques<br />

Où s est une déformation et σ une contrainte.<br />

G * = G + s ⋅σ<br />

+ s ⋅σ<br />

+ s ⋅σ<br />

Équation 4-19<br />

1<br />

1<br />

2<br />

2<br />

Nous utilisons la notation <strong>de</strong> la matrice <strong>de</strong> Voigt et le référ<strong>en</strong>tiel cartési<strong>en</strong> orthogonal avec<br />

l’axe x3 perp<strong>en</strong>diculaire <strong>à</strong> la surface du film.<br />

L’approche phénoménologique <strong>de</strong> Pertsev est développée pour une croissance épitaxiale du<br />

film sur le substrat. Nous avons t<strong>en</strong>té <strong>de</strong> montrer que le développem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> Pertsev peut être<br />

utilisé pour décrire nos empilem<strong>en</strong>ts.<br />

L’hypothèse principale <strong>de</strong> Pertsev rési<strong>de</strong> dans le fait que la déformation dans le plan du BTO,<br />

Sm, peut être décrite par l’équation qui suit :<br />

m<br />

( T ) = S ( T ) + ( −α<br />

)( T T )<br />

m<br />

g<br />

s<br />

f<br />

6<br />

6<br />

S α −<br />

Équation 4-20<br />

Où Tg est la température <strong>de</strong> croissance, αs et αf sont respectivem<strong>en</strong>t les coeffici<strong>en</strong>ts <strong>de</strong><br />

dilatation thermique du substrat et du film.<br />

Le formalisme <strong>de</strong> Pertsev a été appliqué <strong>à</strong> notre système afin d’expliquer le comportem<strong>en</strong>t <strong>de</strong><br />

la constante diélectrique du BTO <strong>en</strong> fonction <strong>de</strong> la température.<br />

2.2. Conditions expérim<strong>en</strong>tales<br />

2.2.1. Les échantillons<br />

Nous avons étudié <strong>de</strong>ux empilem<strong>en</strong>ts Pt/BTO/Pt/TiO2/SiO2/Si pour lesquels l’électro<strong>de</strong><br />

supérieure est réalisée par la technique du lift-off. Les conditions <strong>de</strong> dépôt du BTO sont celles<br />

du BTO optimisé lors du plan d’expéri<strong>en</strong>ces. Deux épaisseurs <strong>de</strong> BTO ont été étudiées :<br />

100 nm et 400 nm. Le BTO est cristallisé grâce <strong>à</strong> un recuit <strong>à</strong> 650°C sous air p<strong>en</strong>dant 30 min.<br />

2.2.2. Techniques <strong>de</strong> caractérisation physico-chimique<br />

Des analyses <strong>de</strong> diffraction X <strong>en</strong> mo<strong>de</strong> θ-2θ ont été réalisées <strong>en</strong>tre 10° et 100° avec une<br />

mesure tous les 0,05°. Chaque mesure dure 4 s (« mesure longue »). L’intérêt <strong>de</strong> l’équipem<strong>en</strong>t<br />

(ano<strong>de</strong> tournante) utilisé pour ces analyses par rapport aux diffractomètres utilisés dans le<br />

chapitre précé<strong>de</strong>nt (§ 1.4.3) rési<strong>de</strong> dans sa précision. Il comporte un capteur incrém<strong>en</strong>tal qui<br />

permet d’obt<strong>en</strong>ir une précision mécanique réelle du dix millième <strong>de</strong> <strong>de</strong>gré sur tout le cercle<br />

g<br />

163

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