Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
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tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />
Chapitre 5 : Influ<strong>en</strong>ce du procédé d’élaboration <strong>de</strong>s <strong>capacités</strong> sur leurs performances<br />
La Figure 5-17 prés<strong>en</strong>te les valeurs <strong>de</strong> hauteur <strong>de</strong> barrière pour les <strong>de</strong>ux électro<strong>de</strong>s, Pt et Au,<br />
calculées <strong>à</strong> partir <strong>de</strong>s p<strong>en</strong>tes P définies dans le paragraphe précé<strong>de</strong>nt <strong>en</strong> fonction du champ<br />
électrique appliqué.<br />
Hauteur <strong>de</strong> barrière effective (eV)<br />
1.4<br />
1.2<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
0.E+00<br />
phib = 1.1<br />
Phib = 0.95<br />
1.E+03<br />
2.E+03<br />
3.E+03<br />
4.E+03<br />
5.E+03<br />
6.E+03<br />
7.E+03<br />
E 1/2 (V/m) 1/2<br />
Figure 5-17 : P<strong>en</strong>tes <strong>de</strong>s courbes d’Arrhénius pour les <strong>de</strong>ux s<strong>en</strong>s d’injection<br />
On obti<strong>en</strong>t une hauteur <strong>de</strong> barrière <strong>de</strong> 1,10 eV lorsque l’injection se fait par l’électro<strong>de</strong><br />
supérieure <strong>en</strong> Au. Pour l’autre mo<strong>de</strong> d’injection, la hauteur <strong>de</strong> barrière obt<strong>en</strong>ue <strong>de</strong> 0,95 eV est<br />
inférieure <strong>à</strong> la valeur att<strong>en</strong>due pour une électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> Pt. En effet, le Pt prés<strong>en</strong>tant un travail <strong>de</strong><br />
sortie WM égal <strong>à</strong> 5,4 eV et le STO possédant une affinité électronique χSTO <strong>de</strong> 4,1 eV, la<br />
hauteur <strong>de</strong> barrière <strong>de</strong>vrait être WB = WM - χSTO = 1,3 eV. Cette diminution <strong>de</strong> la hauteur <strong>de</strong><br />
barrière peut être due <strong>à</strong> la prés<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> charges piégées <strong>à</strong> l’interface Pt/STO.<br />
Notons toutefois que l’incertitu<strong>de</strong> <strong>de</strong> mesure est importante, l’extraction <strong>de</strong>s p<strong>en</strong>tes étant<br />
réalisée <strong>à</strong> partir <strong>de</strong> la Figure 5-16 pour laquelle on voit que les courbes ne sont pas tout <strong>à</strong> fait<br />
linéaires. Au vu <strong>de</strong>s résultats expérim<strong>en</strong>taux nous nous trouvons donc dans le bon ordre <strong>de</strong><br />
gran<strong>de</strong>ur.<br />
2.5. Conclusion<br />
Globalem<strong>en</strong>t, la structure Pt/STO/Pt prés<strong>en</strong>te <strong>de</strong> meilleurs résultats que la structure<br />
Au/STO/Pt. Les courants <strong>de</strong> fuite les plus faibles sont obt<strong>en</strong>us pour l’échantillon dont<br />
l’électro<strong>de</strong> supérieure <strong>en</strong> Pt, a été déposée sur le STO cristallisé d’une épaisseur <strong>de</strong> 45 nm et<br />
qui a subi le recuit <strong>de</strong> guérison :<br />
• Inférieurs <strong>à</strong> 10 -7 A/cm² <strong>à</strong> 3 V et 25°C,<br />
8.E+03<br />
Esup<br />
Einf<br />
9.E+03<br />
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