Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...

tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007
Sommaire général
Sommaire général
Introduction générale....................................................................................... 6
Chapitre 1 : Problématique ........................................................................... 10
1. Historique – Evolution de la microélectronique .................................. 12
1.1. Avancée de la microélectronique : loi de Moore................................................12
1.2. Transistor MOS : remplacement de l’oxyde de grille.........................................13
1.3. Le problème des composants passifs .................................................................15
1.4. L’évolution des approches.................................................................................16
2. La capacité MIM (Métal/Isolant/Métal).............................................. 17
2.1. Définitions ........................................................................................................17
2.2. Applications......................................................................................................20
2.3. Les caractéristiques requises..............................................................................21
2.4. Avantages et contraintes de la capacité MIM.....................................................27
3. Les solutions de remplacement ........................................................... 28
3.1. Problématique ...................................................................................................28
3.2. Propriétés requises pour les applications en microélectronique ..........................28
3.3. Les matériaux high-k.........................................................................................30
3.4. Les multicouches...............................................................................................32
4. Conclusion – intérêt de l’étude............................................................ 33
Bibliographie ................................................................................................ 35
Chapitre 2 : Elaboration de films minces de STO et BTO........................... 38
1. Les pérovskites : STO et BTO ............................................................ 40
1.1. Classification des cristaux .................................................................................40
1.2. La structure pérovskite ......................................................................................41
1.3. Considérations cristallographiques ....................................................................42
2. STO et BTO : comportement et applications....................................... 45
2.1. Comportement électrique ..................................................................................45
2.2. Applications......................................................................................................55
2.3. Etat de l’art des MIM STO et BTO....................................................................56
3. Les différentes techniques d’élaboration............................................. 61
3.1. Introduction.......................................................................................................61
3.2. Les techniques chimiques..................................................................................62
3.3. Les techniques physiques ..................................................................................65
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