Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
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tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />
Chapitre 4 : Li<strong>en</strong> <strong>en</strong>tre structure cristallographique et propriétés électriques<br />
goniométrique. L’équipem<strong>en</strong>t utilisé a un pouvoir <strong>de</strong> résolution <strong>de</strong> l’ordre <strong>de</strong> 0,02° pour un<br />
angle θ <strong>de</strong> 30° pour <strong>de</strong>s poudres bi<strong>en</strong> cristallisées par exemple.<br />
La mesure <strong>de</strong>s coeffici<strong>en</strong>ts <strong>de</strong> dilatation thermique est obt<strong>en</strong>ue <strong>à</strong> partir <strong>de</strong> spectres <strong>de</strong><br />
diffraction X locaux sur les pics <strong>de</strong> réflexion <strong>de</strong> Bragg du BTO (200) et du Si (400) hors plan.<br />
Ces mesures ont été effectuées dans un intervalle <strong>de</strong> température allant <strong>de</strong> 300 K <strong>à</strong> 700 K.<br />
Les mesures <strong>de</strong> contraintes dans le plan du BTO sont obt<strong>en</strong>ues grâce <strong>à</strong> <strong>de</strong>s mesures <strong>de</strong> flèches<br />
<strong>à</strong> l’ai<strong>de</strong> <strong>de</strong> la formule <strong>de</strong> Stoney prés<strong>en</strong>tée dans le chapitre précé<strong>de</strong>nt (§ 1.4.5).<br />
2.2.3. Techniques <strong>de</strong> caractérisation électrique<br />
Les valeurs <strong>de</strong> constante diélectrique sont déduites <strong>de</strong>s valeurs <strong>de</strong> capacité mesurées <strong>à</strong> l’ai<strong>de</strong><br />
d’un impédancemètre (HP4184). Ces mesures ont été réalisées pour <strong>de</strong>s températures situées<br />
<strong>en</strong>tre 298 K et 473 K.<br />
La mesure du caractère ferroélectrique du BTO a été réalisée grâce <strong>à</strong> un montage Tower-<br />
Sawyer. Le schéma électrique <strong>de</strong> ce circuit est décrit dans l’annexe 5.<br />
2.3. Caractérisation cristallographique<br />
2.3.1. Spectres <strong>de</strong> diffraction X<br />
La Figure 4-20 montre les spectres <strong>de</strong> diffraction X <strong>en</strong> mo<strong>de</strong> θ-2θ pour les <strong>de</strong>ux épaisseurs <strong>de</strong><br />
BTO étudiées (100 nm et 400 nm) après recuit <strong>de</strong> cristallisation. Dans les <strong>de</strong>ux cas, la couche<br />
<strong>de</strong> BTO est cristallisée dans la phase pérovskite.<br />
L’échantillon <strong>de</strong> 400 nm d’épaisseur prés<strong>en</strong>te une ori<strong>en</strong>tation aléatoire du BTO : tous les pics<br />
représ<strong>en</strong>tatifs du BTO sont visibles dans le spectre et les hauteurs relatives <strong>de</strong>s pics<br />
correspon<strong>de</strong>nt <strong>à</strong> celles obt<strong>en</strong>ues dans le diagramme <strong>de</strong> poudre (annexe 3).<br />
L’échantillon <strong>de</strong> 100 nm d’épaisseur prés<strong>en</strong>te une forte ori<strong>en</strong>tation (100). En effet, les<br />
int<strong>en</strong>sités <strong>de</strong>s pics (110), (210) et (211) sont très réduites comparées <strong>à</strong> l’int<strong>en</strong>sité <strong>de</strong>s pics dans<br />
la poudre et dans l’échantillon <strong>de</strong> 400 nm d’épaisseur.<br />
Le Pt est, quant <strong>à</strong> lui, fortem<strong>en</strong>t ori<strong>en</strong>té (111).<br />
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