Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
Etude de capacités en couches minces à base d'oxydes métalliques ...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
tel-00141132, version 1 - 11 Apr 2007<br />
Chapitre 3 : <strong>Etu<strong>de</strong></strong> <strong>de</strong> <strong>capacités</strong> MIM <strong>à</strong> <strong>base</strong> <strong>de</strong> STO et BTO<br />
mêmes paramètres <strong>de</strong> dépôt. Ceci est certainem<strong>en</strong>t vrai dans le cas du BTO égalem<strong>en</strong>t,<br />
toutefois les pics du Ba et du Xe étant très proches dans un spectre d’analyse RBS, ce <strong>de</strong>rnier<br />
n’a pas pu être décelé.<br />
4. Conclusion du chapitre<br />
Dans ce chapitre nous avons mis <strong>en</strong> évi<strong>de</strong>nce les paramètres <strong>de</strong> dépôt ayant une influ<strong>en</strong>ce sur<br />
les propriétés électriques <strong>de</strong>s matériaux high-k étudiés. Le Tableau 3-20 résume les effets <strong>de</strong><br />
ces paramètres sur la constante diélectrique et la température <strong>de</strong> transition faible/forte<br />
constante diélectrique.<br />
Tableau 3-20 : Résumé <strong>de</strong>s effets <strong>de</strong>s paramètres <strong>de</strong> dépôt sur les propriétés électriques <strong>de</strong> STO et BTO.<br />
BTO<br />
STO<br />
T O2 VCP ICP VIAD IIAD Ep<br />
εr + + + + + +<br />
Ttr + + -<br />
εr + - / /<br />
Ttr + / /<br />
Pour STO comme pour BTO, la température <strong>de</strong> dépôt semble être un paramètre primordial<br />
qui mérite d’être étudié plus <strong>en</strong> détails. En effet, on pourrait supposer que le fait <strong>de</strong> déposer <strong>en</strong><br />
température permette d’organiser les atomes <strong>de</strong> manière <strong>à</strong> ce que la température <strong>de</strong> recuit<br />
nécessaire <strong>à</strong> la cristallisation soit moins élevée. Le fait <strong>de</strong> déposer nos matériaux <strong>à</strong><br />
température élevée (150°C) leur confère peut-être une structure particulière très différ<strong>en</strong>te <strong>de</strong><br />
la phase obt<strong>en</strong>ue une fois les <strong>couches</strong> cristallisées, qui nécessit<strong>en</strong>t plus d’énergie pour se<br />
réarranger dans la structure pérovskite. Nous allons donc prés<strong>en</strong>ter dans le chapitre suivant les<br />
résultats d’une analyse EXAFS (Ext<strong>en</strong><strong>de</strong>d X-ray Absorption Fine Structure, <strong>en</strong> français<br />
Structure Fine d’Absorption X après seuil) réalisée sur <strong>de</strong>s dépôts <strong>de</strong> STO cristallisés et<br />
amorphes. En effet les techniques <strong>de</strong> caractérisations prés<strong>en</strong>tées dans ce chapitre, comme la<br />
diffraction X, n’ont pas permis <strong>de</strong> différ<strong>en</strong>cier nos matériaux avant recuit or l’un <strong>de</strong>s<br />
avantages <strong>de</strong> l’EXAFS est la possibilité d’étudier les amorphes.<br />
De plus la variation <strong>de</strong> constante diélectrique et particulièrem<strong>en</strong>t le fait que les valeurs<br />
observées dans le cas du BTO soi<strong>en</strong>t faibles par rapport <strong>à</strong> la littérature nécessit<strong>en</strong>t <strong>de</strong>s<br />
analyses plus poussées. Une étu<strong>de</strong> sur l’évolution <strong>de</strong> l’ori<strong>en</strong>tation <strong>de</strong>s films <strong>de</strong> BTO et <strong>de</strong> leur<br />
constante diélectrique sera prés<strong>en</strong>tée dans le chapitre suivant.<br />
131