Anais 2º Congresso Latino-Americano de Restauraçao de Metais

atingindo em muitos casos para os metais, limites de detecção superiores de mais de
uma ordem de grandeza. A figura 1 mostra, no caso das ligas de ouro, os limites de
detecção desta técnica (Guerra e al 2005). Os bons limites de detecção são obtidos,
sobretudo, graças à utilização de feixes monocromáticos, por vezes de energias
elevadas que podem atingir quase 100 keV como em BESSY II (Berlim, Alemanha).
Além das técnicas já citadas, outras são utilizadas com mais ou menos
sucesso nos estudos de ourivesaria e numismática. No caso da determinação dos
elementos traço destaca-se a técnica à base de um plasma indutiva (ICP), associada
quer à espectrometria de massa (MS) quer à espectrometria de emissão (AES). A
primeira necessitando de uma amostra mais reduzida e possuindo melhores limites
de detecção (veja-se a figura 1), aliás, inigualáveis por outras técnicas atuais
(Gondonneau et al 2001). A técnica ICP-MS permite a associação de uma ablação
laser, o que reduz ainda mais a amostra necessária (Gondonneau e Guerra 1999).
Atualmente, novos lasers estão disponíveis para esta técnica assim como a
associação de multi-colectores que permitem determinar, além das concentrações
elementares, as razões isotópicas de certos elementos como o Pb, o Sn e o Os
(Clayton et al. 2002, Niederschlag et al 2003, Junk e Pernicka 2003). Esta
possibilidade alargará, talvez, a aplicação do ICP-MS aos estudos de proveniência
de diversos metais. É assim possível que num futuro próximo, no domínio dos metais
do patrimônio e no caso da análise isotópica, a técnica ICP-MS seja totalmente
substituída pela técnica LA-MC-ICP-MS, que não necessita da morosa separação
química do elemento a medir.
10000
ppm
1000
100
10
1
PIXE
Sy-XRF
0,1
0,01
0,001
0,0001
0 20 40 60 80 100
ICP-MS
Z
Figura 1: Limites de detecção PIXE e Sy-XRF para os elementos traço de uma liga de ouro. No caso
do PIXE um feixe de 3 MeV de prótons e de 30 µm de diâmetro são utilizados, além de dois
detectores de Si(Li), um deles com um filtro de 75 µm de cobre. No caso do Sy-XRF um feixe de
fótons incidentes de 33 keV e de cerca de 12 keV de energia são utilizados, além de um detector de
Si(Li).
Os limites de detecção da técnica ICP-MS correspondem apenas à flutuação
do ruído de fundo no plasma.
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