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Numerische Berechnung der elektronischen ... - SAM - ETH Zürich

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12 KAPITEL 1. DER HALBLEITERLASER<br />

1.4 Laserstrukturen<br />

1.4.1 Halbleitermaterialien<br />

Das erste Halbleitermaterial mit Lasereigenschaften war GaAs - und zwar im nahen<br />

Infrarotbereich. Heute gibt es Erfahrungen für eine Vielzahl von Materialien, vor<br />

allem für III-V-Halbleiter (siehe Tabelle 1.1), jedoch existieren weiterhin enorme<br />

Anstrengungen in <strong>der</strong> Forschung an Halbleitermaterialien.<br />

Die wichtigsten Materialsysteme sind Al x Ga 1−x As (siehe z.B. [6, 7, 8, 9, 10,<br />

11]) sowie Ga x In 1−x As y P 1−y (siehe z.B. [12, 13, 14]), die Licht <strong>der</strong> Wellenlängen<br />

im sichtbaren und nahen Infrarotbereich emittieren. Sie haben die Zinkblende-<br />

Gitterstruktur (kubisch), sind direkte Halbleiter, und die Extrempunkte liegen im<br />

Zentrum <strong>der</strong> Brillouinzone, dem Γ-Punkt (siehe Kapitel 2). Die in dieser Arbeit untersuchten<br />

Bandstrukturmodelle beziehungsweise ihre Hamiltonianmatrizen (siehe<br />

z.B. (3.57)) sind für Bandstrukturberechnungen dieser Systeme geeignet.<br />

Tabelle 1.1:<br />

Al Ga In<br />

N AlN GaN InN<br />

P AlP GaP InP<br />

As AlAs GaAs InAs<br />

Sb AlSb GaSb InSb<br />

Wegen ihrer opto<strong>elektronischen</strong> Eigenschaften sind von den III-V-<br />

Halbleitern die binären, ternären und quaternären Verbindungen mit<br />

Al, Ga und In interessant. Von diesen kommen die Phosphide, Arsenide<br />

und Antimonide im (kubisches) Zinkblendegitter vor. GaN<br />

existiert im Wurtzit- und im Zinkblendegitter.<br />

Wegen ihrer breiten Bandlücke und somit einer Emission von blauem und violettem<br />

Licht sind GaN, AlN, InN und ihre entsprechenden ternären und quaternären<br />

Verbindungen interessant (siehe z.B. [15, 16, 17, 18]). Sie haben fast ausschließlich<br />

eine Wurtzitgitterstruktur und sind nicht Gegenstand dieser Arbeit.<br />

1.4.2 p-n-Laserdiode<br />

In Abbildung 1.6 ist <strong>der</strong> schematische Aufbau einer p-n-Laserdiode dargestellt. Sie<br />

ist nichts an<strong>der</strong>es als eine p-n-Diode kombiniert mit einem optischen Resonator.<br />

Die Diode wird in Durchlaßrichtung betrieben, Ladungsträger werden injiziert und<br />

rekombinieren am p-n-Übergang in <strong>der</strong> aktiven Zone.<br />

Die beiden planparallelen Seitenflächen – meist Spaltkanten entlang von Kristallebenen<br />

– bilden einen Fabry-Perot-Resonanzraum. Die an<strong>der</strong>en Seitenflächen<br />

werden rauh belassen, damit Laseroszillationen in an<strong>der</strong>e als die ”<br />

Hauptrichtung“<br />

unterdrückt werden.<br />

Überschreitet die Ladungsträgerdichte am p-n-Übergang einen gewissen Wert,<br />

wird das erzeugte Licht verstärkt, die stimulierte Emission dominiert und die Lichtleistung<br />

steigt stark mit dem Injektionsstrom – das ”<br />

Lasen“ ist gestartet (siehe<br />

Abbildung 1.7). Der Strom an <strong>der</strong> Laserschwelle wird als Schwellstrom (threshold)<br />

I th bezeichnet. Unterhalb <strong>der</strong> Laserschwelle überwiegt die spontane Emission großer<br />

spektraler Breite ähnlich einer Licht-emittierenden Diode (LED).<br />

Der Schwellstrom steigt stark bei steigen<strong>der</strong> Temperatur und liegt bei Raumtemperatur<br />

sehr hoch, für GaAs bei etwa 50 − 100 kA/cm 2 [2, 5]. Ein kontinuierlicher<br />

Betrieb ist bei Raumtemperatur daher nicht möglich.

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