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Numerische Berechnung der elektronischen ... - SAM - ETH Zürich

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4.3. PIKUS-BIR-HAMILTONIAN MIT VERSPANNUNG 49<br />

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<br />

© © <br />

Abbildung 4.2: Verspannung hervorgerufen durch eine Gitteranpassung beim<br />

Aufwachsen einer dünnen (QW)-Schicht auf ein Substrat. (a) Die<br />

Gitterkonstanten des Substrates a 0 und <strong>der</strong> QW-Schicht a stimmen<br />

überein, <strong>der</strong> QW bleibt unverspannt. (b) Das Substrat besitzt<br />

eine höhere Gitterkonstante, <strong>der</strong> QW wird in <strong>der</strong> xy-Ebene senkrecht<br />

zur Aufwachsrichtung gedehnt. Dies ist <strong>der</strong> Fall beim Aufwachsen<br />

einer GaAs-Schicht auf ein Al x Ga 1−x As-Substrat. (c)<br />

Die Gitterkonstante des Substrates ist kleiner, die QW-Schicht<br />

wird zusammengepreßt.<br />

ε xx = ε yy ≠ ε zz (4.28)<br />

ε xy = ε yz = ε zx = 0<br />

Deshalb verschwinden die Nichtdiagonalelemente R ε und S ε in (4.27).<br />

R ε = S ε = 0 (4.29)<br />

⎤<br />

Ohne die Scherkomponenten <strong>der</strong> Verspannung ist das Hookesche Gesetz<br />

⎡<br />

σ xx<br />

⎤ ⎡<br />

C 11 C 12 C 12<br />

⎡<br />

ε xx<br />

⎤<br />

σ zz C 12 C 12 C 11 ε zz<br />

⎣ σ yy<br />

⎦ = ⎣ C 12 C 11 C 12<br />

⎦ ⎣ ε yy<br />

⎦ (4.30)<br />

wie sich leicht durch Einsetzen von (4.28) in (4.15) zeigt.<br />

Bei <strong>der</strong> Gitteranpassung wird die QW-Schicht so verspannt, daß ihre Gitterkonstante<br />

in <strong>der</strong> QW-Ebene a gleich <strong>der</strong> des Substrates a 0 wird. Deshalb wird wegen<br />

ε xx a = ε yy a = a 0 − a (4.31)<br />

ε xx = ε yy = a 0 − a<br />

a<br />

(4.32)

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