Numerische Berechnung der elektronischen ... - SAM - ETH Zürich
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4.3. PIKUS-BIR-HAMILTONIAN MIT VERSPANNUNG 49<br />
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© © <br />
Abbildung 4.2: Verspannung hervorgerufen durch eine Gitteranpassung beim<br />
Aufwachsen einer dünnen (QW)-Schicht auf ein Substrat. (a) Die<br />
Gitterkonstanten des Substrates a 0 und <strong>der</strong> QW-Schicht a stimmen<br />
überein, <strong>der</strong> QW bleibt unverspannt. (b) Das Substrat besitzt<br />
eine höhere Gitterkonstante, <strong>der</strong> QW wird in <strong>der</strong> xy-Ebene senkrecht<br />
zur Aufwachsrichtung gedehnt. Dies ist <strong>der</strong> Fall beim Aufwachsen<br />
einer GaAs-Schicht auf ein Al x Ga 1−x As-Substrat. (c)<br />
Die Gitterkonstante des Substrates ist kleiner, die QW-Schicht<br />
wird zusammengepreßt.<br />
ε xx = ε yy ≠ ε zz (4.28)<br />
ε xy = ε yz = ε zx = 0<br />
Deshalb verschwinden die Nichtdiagonalelemente R ε und S ε in (4.27).<br />
R ε = S ε = 0 (4.29)<br />
⎤<br />
Ohne die Scherkomponenten <strong>der</strong> Verspannung ist das Hookesche Gesetz<br />
⎡<br />
σ xx<br />
⎤ ⎡<br />
C 11 C 12 C 12<br />
⎡<br />
ε xx<br />
⎤<br />
σ zz C 12 C 12 C 11 ε zz<br />
⎣ σ yy<br />
⎦ = ⎣ C 12 C 11 C 12<br />
⎦ ⎣ ε yy<br />
⎦ (4.30)<br />
wie sich leicht durch Einsetzen von (4.28) in (4.15) zeigt.<br />
Bei <strong>der</strong> Gitteranpassung wird die QW-Schicht so verspannt, daß ihre Gitterkonstante<br />
in <strong>der</strong> QW-Ebene a gleich <strong>der</strong> des Substrates a 0 wird. Deshalb wird wegen<br />
ε xx a = ε yy a = a 0 − a (4.31)<br />
ε xx = ε yy = a 0 − a<br />
a<br />
(4.32)