Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...

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Inhaltsverzeichnis
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Inhaltsverzeichnis
1. Einleitung
Seite
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2. Stand der Forschung 13
2.1 Thermische Plasmen 13
2.1.1 Erzeugen thermischer Plasmen 14
2.1.2 Technische Anwendung thermischer Plasmastrahlen 16
2.2 Verfahren zum Herstellen von Si-C(-N)-Schichten 22
2.2.1 Tauchverfahren 23
2.2.2 Polymersprühen 23
2.2.3 Reaktive PVD-Verfahren 24
2.2.4 Thermisch aktivierte CVD-Verfahren 24
2.2.5 Plasma unterstützte CVD-Verfahren (Plasma Enhanced CVD - PECVD) 25
2.2.6 Thermische Plasmaverfahren 26
2.3 Modelle zur Schichtentstehung 27
2.3.1 Speziesbildung im Plasmastrahl 27
2.3.2 Transport schichtbildender Spezies an die Substratoberfläche 29
2.3.3 Keimbildung an der Substratoberfläche und Schichtwachstum 32
2.3.4 Keimbildung im Plasmastrahl 39
2.3.5 Deposition nanoskaliger Partikel 43
3. Ziele 45
4. Methodische Vorgehensweise 46
4.1 Substratwerkstoffe 46
4.2 Precursoren 49
4.3 Syntheseprozesse 57
4.4 Prozesscharakterisierung 58
4.4.1 Emissionsspektroskopie 59
4.4.2 Enthalpiesondenmessungen 61
4.5 Schichtcharakterisierung 64
5. Versuchsdurchführung 66
5.1 DC Plasmajet CVD 66
5.1.1 Prozessführung 66
5.1.2 Prozesscharakterisierung 68