Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...
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5. Versuchsdurchführung<br />
69<br />
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5.2 Drei-Brenner DC Plasmajet CVD<br />
5.2.1 Prozessführung<br />
Bei den Untersuchungen mittels des Drei-Brenner DC Plasmajet CVD Verfahrens kommen<br />
zwei unterschiedliche Reaktoren zum Einsatz. Eine schematische Darstellung des Anlagen<strong>auf</strong>baus<br />
zur Schichtabscheidung ist in Abbildung 19 dargestellt.<br />
Precursor<br />
Ventil<br />
Kammerdruck<br />
Energieversorgung<br />
22°<br />
Mischkammern<br />
Massenflußregler<br />
Ar<br />
H 2<br />
N 2<br />
Propanbrenner<br />
CH 4<br />
Br. 1Br. 2Br.<br />
3 CIP<br />
Absaugung<br />
Abbildung 19: Prinzipdarstellung der Versuchseinrichtung mit drei DC Plasmabrennern zur<br />
Schichtsynthese aus flüssigen Precursoren<br />
Zum Generieren des Plasmas kommen drei modifizierte Brenner des Typs AS - 103L der<br />
Firma Tekna Plasma Systems, die mit der Zerstäubungseinheit einen Winkel <strong>von</strong> 22° bilden,<br />
zum Einsatz. Zur Injektion der Ausgangsstoffe in die sich vereinigenden Plasmastrahlen wird<br />
im Inneren der Zerstäubungseinheit ein Röhrchen mit einem Durchmesser <strong>von</strong> 0,4 mm, das<br />
vom Zerstäubergas umströmt wird, eingesetzt. Der Austritt der Zerstäubungseinheit befindet<br />
sich 20 mm unterhalb der Ebene der Brennerausgänge. Ein Feinventil schränkt den Fluss des<br />
Precursors in die Niederdruckatmosphäre der Vakuumkammer ein und ermöglicht so eine<br />
Kontrolle der Förderrate.<br />
Vakuumpumpen
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