Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...
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2. Stand der Forschung<br />
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Ort für eine 2 mm dicke Grenzschicht ist in Abbildung 6 dargestellt. Als Kriterium für die<br />
Dicke der Grenzschicht geht die aus Enthalpiesondenmessungen bestimmte 4.000 K Isotherme<br />
ein. Ausgangspunkt der Simulation ist die Gleichgewichtszusammensetzung bei 4.000 K.<br />
Abbildung 5: Grenzschichtausbildung bei unterschiedlichen Anströmbedingungen der<br />
Substratoberfläche [Fre95]<br />
molarer Anteil<br />
10 0<br />
10 -1<br />
10 -2<br />
10 -3<br />
10 -4<br />
10 -5<br />
10 -6<br />
10 -7<br />
10 -8<br />
10 -9<br />
0,0<br />
CH<br />
2 2<br />
CH 4<br />
CH 2<br />
0,5 1,0<br />
Substratabstand [mm]<br />
1,5 2,0<br />
Abbildung 6: Berechnete Entwicklung der Spezieskonzentration in einer 2 mm dicken<br />
Grenzschicht über einen Substrat während der TPCVD Synthese <strong>von</strong><br />
Diamantschichten (Ar / H2 / CH4 Verhältnis 11:1:0,02) [Yu94]<br />
CH<br />
H 2<br />
C<br />
CH 3<br />
H