Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...
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6. Untersuchungsergebnisse<br />
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Abbildung 59: Drei-Brenner DC Plasmajet CVD Prozessbild während der Schichtsynthese<br />
mit dem Precursor HMDSO in einem Ar / H2 Plasma bei 50 mm Substratabstand<br />
Precursor: HMDSZ TMDSO<br />
Plasmastrom: 375 A 325 A<br />
Plasmagas: Ar (25 l/min) Ar / H2 (25 / 1 l/min)<br />
Zerstäubergas: Ar (7,5 l/min) H2 / CH4 (0,5 / 1 l/min)<br />
Brennerabst.: 50 mm 50 mm<br />
Abbildung 60: Aufsicht <strong>auf</strong> zwei mittels Drei-Brenner DC Plasmajet CVD beschichtete<br />
Molybdänsubstrate
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