Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...
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52<br />
4. Methodische Vorgehensweise<br />
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Isopentan C5H12<br />
Isobuten C4H8<br />
Neopentan C5H12<br />
Methanol CH4O<br />
Ethanol C2H6O<br />
Dimethylether C2H6O<br />
Methansäure CH2O2<br />
Ethansäure C2H4O2<br />
C<br />
C C C<br />
C C<br />
C<br />
C<br />
C<br />
C C C<br />
C<br />
C OH<br />
C<br />
C C OH<br />
C O C<br />
O C<br />
O C<br />
Formaldehyd CH2O O C<br />
Ethylenglycol C2H6O2<br />
Ammoniak H3N<br />
Methylamin CH5N<br />
Dimethylamin C2H7N<br />
Trimethylamin C3H9N<br />
N<br />
C<br />
OH<br />
C N<br />
OH<br />
C N C<br />
C N C<br />
C<br />
27,9<br />
-6,9<br />
9,5<br />
64,6<br />
78,3<br />
-24,9<br />
100,9<br />
117,9<br />
-19,2<br />
197,4<br />
-33,4<br />
Chlorsilanmischungen, die das Potenzial zum Abzuscheiden <strong>von</strong> SiC Schichten haben, fallen<br />
in der Silicium- und Silikonindustrie als Abfallprodukt an [Leh90]. Allerdings resultieren aus<br />
der korrosiven Wirkung des Chlors der Precursoren mit hohem Si / C Verhältnis anlagenseitig<br />
-6,3<br />
6,9<br />
2,9