Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...

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150 9. Literaturverzeichnis ______________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________ [Rao95a] Rao, N., S. Girshick, J. Heberlein, P. McMurry, S. Jones, D. Hansen, B. Micheel: Nanoparticle Formation Using a Plasma Expansion Process, Plasma Chemistry and Plasma Processing, Vol. 15, No. 4, 1995, pp. 581-605 [Rao95b] Rao, N., B. Micheel, D. Hansen, C. Fandrey, M. Bench, S. Girshick, J. Heberlein, P. H. McMurry: Synthesis of nanophase silicon, carbon and silicon carbide powders using a plasma expansion process, Journal of Materials Research, Vol. 10, No. 8, 1995, pp. 2073-2084 [Sch99] Schiller, G, M. Müller, F. Gitzhofer: Preparation of perovskite powders and coatings by radio frequency suspension plasma spraying, Journal of Thermal Spray Technology, Vol. 8, No. 3, 1999, pp. 389-392 [Sin93] Singh, S. K., L. Stachowicz, S. L. Girshick, E. Pfender: Thermal plasma synthesis of SiC from rice hull (husk), Journal of Materials Science Letters, Vol. 12, No. 9, 1993, pp. 659-660 [Ste96] Steffens, H.-D., J. Wilden: Moderne Beschichtungsverfahren, 2. neubearbeitete Auflage, DGM Informationsgesellschaft Verlag, 1996 [Swi99] Swihart, M. T., S. L. Girshick: Ab initio structures and energetics of selected hydrogenated silicon clusters containing six to ten silicon atoms, Chemical Physics Letters, Vol. 307, 1999, pp. 527-532 [Toy90] Yoshida, T.: Thermal Plasma Synthesis of Ceramic Powders and Coatings, Combustion and plasma synthesis of high temperature materials, Eds.: Z. A. Munir, J. B. Holt, VCH Publishers, 1990, pp. 328-339 [Tym99] Tymiak, N., D. I. Iordanoglou, D. Neumann, A. Gidwani, F. Di Fonzo, M. H. Fan, N. P. Rao, W. W. Gerberich, P. H. McMurry, J. V. R. Heberlein, S. L. Girshick: Hypersonic Plasma Particle Deposition of Nanostructured Silicon Carbide Films, Proceedings of the 14 th International Symposium on Plasma Chemistry, Prague, Czech Republic, 1999, pp. 1989-1994 [Wic94] Wickramanayaka, S., Y. Hatanaka, Y. Nakanishi, A. M. Wrobel: Preparation and Deposition Mechanism of a-SiC:H Films by Using Hexamethyldisilane in a Remote H2 Plasma, Journal of the Electrochemical Society, Vol. 141, No. 10, October 1994, pp. 2910-2914 [Wie00a] Wielage, B., J. Wilden, T. Schnick: Herstellung von SiC-Verbundschichten mittels HVOF, 1. GTV Kolloquium „Thermisches Spritzen“, 23.06.2000, S. 51 – 56 [Wie00b] Wielage, B., J. Wilden, T. Schnick: Thermisches Spritzen inkongruent schmelzender Werkstoffe, 3. Werkstofftechnisches Kolloquium Thermisches Spritzen, 19. – 20.10.2000, Chemnitz, Band 4, S. 94 – 102 [Wie00c] Wielage, B., J. Wilden, T. Schnick: Manufacture of SiC Composite Coatings by HVOF, Proceedings of the International Thermal Spray Conference, ITSC 2001, Singapore, to be published [Win91] Windischmann, H.: Intrinsic stress and mechanical properties of hydrogenated silicon carbide produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition, Journal of Vacuum Science and Technology, A 9, No. 4, Jul. / Aug. 1991, pp. 2459-2463 [Wöh97] Wöhle, J.: Spektroskopische Untersuchungen zur Prozessoptimierung beim plasmagestützten CVD von Hartstoffschichten, Dissertation, Technische Universität Carolo-Wilhelmina zu Braunschweig, 1997 [Yam99] Yamaguchi, N., Y. Sasajima, K. Terashima, T. Yoshida: Molecular dynamics study of cluster deposition in thermal plasma flash evaporation, Thin Solid Films, Vol. 345, 1999, pp. 34-37
9. Literaturverzeichnis 151 ______________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________ [Yu94] Yu, B. W., S. L. Girshick: Atomic carbon vapor as a diamond growth precursor in thermal plasmas, Journal of Applied Physics, Vol. 75, No. 8, 1994, pp. 3914-3923 [Zha94] Zhang, W., K. Zhang, B. Wang: Influence of temperature on the properties of SiCxNy:H films prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition, Materials Science and Engineering, Vol. B26, 1994, pp. 133-140 [Zhu89a] Zhu, Y., C. Lau, E. Pfender: Deposition of YBa2Cu3O7-x Powders Using a Liquid Injection Method, Proc. of 9 th International Symposium on Plasma Chemistry, Pugnochiuso, Italy, September 1989, pp. 876-881 [Zhu89b] Zhu, Y., C. Lau, E. Pfender: Deposition of YBa2Cu3O7-x Thick Films by the Spray-ICP Technique; Proc. of 9 th International Symposium on Plasma Chemistry, Pugnochiuso, Italy, September 1989, pp. 1497-1502 [Zhu91] Zhu, Y., C. Lau, E. Pfender: Radio frequency thermal plasma chemical vapor deposition of superconducting YBa2Cu3O7-x films, Journal of Applied Physics, Vol. 69, No. 5, 1991, pp. 3404-3406 [Zhu93] Zhu, C. W., G. Y. Zhao, V. Revankar, V. Hlavacek: Synthesis of ultra-fine SiC powders in a d.c. plasma reactor, Journal of Materials Science, Vol. 28, No. 3, 1993, pp. 659-668
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Lebenslauf 3 ______________________
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Vorwort 5 _________________________
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Abstract 7 ________________________
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Verwendete Indizierung und Konstant
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Inhaltsverzeichnis 11 _____________
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2. Stand der Forschung 13 _________
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3. Ziele 45 _______________________
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4. Methodische Vorgehensweise 47 __
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5. Versuchsdurchführung 67 _______
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6. Untersuchungsergebnisse 77 _____
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Seite 145 und 146: 8. Zusammenfassung 145 ____________
Seite 147 und 148: 9. Literaturverzeichnis 147 _______
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