Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...
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4. Methodische Vorgehensweise<br />
57<br />
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Abbildung 13: Typische Zusammensetzung der Disilanfraktion der Abfallprodukte aus der<br />
Müller-Rochow Synthese<br />
77 % 16 % 2 %<br />
Abbildung 14: Typische Zusammensetzung der eingesetzten Aminodisilane<br />
Mit HMDSO, TMDSO, HMDSZ und Hexamethylcyclotrisilazan werden auch chlorfreie<br />
Si-C(-N) Precursoren eingesetzt. Mit dem Einsatz <strong>von</strong> HMDSO und TMDSO wird der Einfluss<br />
<strong>von</strong> Sauerstoff in der Precursorstruktur bei unterschiedlichen Si / C Verhältnissen in die<br />
Untersuchungen einbezogen. Das Si / C Verhältnis in HMDSO und HMDSZ beträgt 1:3,<br />
während es in TMDSO und Hexamethylcyclotrisilazan 1:2 annimmt. Untersuchungen mit<br />
Hexamethylcyclotrisilazan und HMDSZ erlauben Aussagen über den Einfluss des Si / N<br />
Verhältnisses (Hexamethylcyclotrisilazan 1:1, HMDSZ 1:0,5) bei einem konstanten Si / C<br />
Verhältnis <strong>von</strong> 1:3.<br />
4.3 Syntheseprozesse<br />
Für die TPCVD Synthese <strong>von</strong> Si-C-N Schichten werden ausschließlich Verfahren, die hohe<br />
Gasgeschwindigkeiten erlauben, eingesetzt. Im vereinigten Plasmastrahl <strong>von</strong> drei DC<br />
Brennern (Drei-Brenner DC Plasmajet) werden ebenso wie beim konventionellen Einsatz
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