Hochratesynthese von Hartstoffschichten auf Siliciumbasis - Qucosa ...

76
6. Untersuchungsergebnisse
______________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________________
6. Untersuchungsergebnisse
6.1 DC Plasmajet CVD
6.1.1 Prozesscharakterisierung
In Emissionsspektren im sichtbaren Wellenlängenbereich werden im Plasmastrahl neben
Spezies, die auf den Einsatz der Plasmagase Argon und Wasserstoff zurückzuführen sind,
auch Spezies, die durch die Injektion des Precursors HMDSO entstehen, nachgewiesen (Abbildung
23). Neben atomarem Silicium entstehen C2 Radikale, deren Bildung auch von der
TPCVD Diamantschichtsynthese aus Methan bekannt ist. Bei geringen Abständen von der
Brennerdüse werden auch Banden, die CHx (1 < x < 3) zuzuordnen sind, detektiert. Im Vergleich
zu den Linien und Banden anderer Spezies ist die Emissionsintensität von CHx bei
10 mm Brennerabstand gering und sinkt für Abstände über 20 mm unter die Nachweisgrenze
des Spektroskops.
Abbildung 23: Emissionsspektrum während des Beschichtens mit dem Precursor HMDSO
im sichtbaren Wellenlängenbereich (Brennerabstand 10 mm)
Im ultravioletten Wellenlängenbereich (Abbildung 24) können keine Emissionslinien von
Spezies der Plasmagase detektiert werden. Bei Injektion des Precursors HMDSO wird ausschließlich
atomares Silicium und atomarer Kohlenstoff nachgewiesen. Ein Hinweis auf wei-