2. Wirkungsquerschnitte und Streulängen - Liss, Klaus-Dieter

60 DAS GASSYSTEM5.2.1. Das GassystemIm Zuchtofen werden wohldefinierte Bedingungen der Gase erwartet, die vom Gassystemkontrolliert und geregelt werden. Prinzipiell kann man hier wieder zwischen den beidenKomponenten vor und hinter dem Zuchtofen, dem Gaszuführ- und dem Gasabführsystemunterscheiden. Das erste übernimmt die Regelung von Zusammensetzung und Durchfluß,während das zweite den Druck steuert.5.2.1.1 Das GaszufŸhrsystemGas (n-1)Das Gaszuführsystem besteht aus vierverschiedenen, je wie in AbbildungMGas (n)Pn Gaszum Reaktorv n(35) skizzierten Linien für jedes derGas (n+1)in Tabelle (4) aufgelisteten Reaktionsgase.Als Quelle dienen handels-ArPn Arübliche Druckflaschen. Nach je einem Abbildung (35):Druckminderer auf einige Bar werdenEine Linie im Gassystem mit Einrichtung zum Argonspülen.Gas (n), Ar: Flaschen der entsprechendendie Gase zu je einem elektronisch Gase; P n : Druckminderer, V n : Massenflußregler; M:einstellbaren Massenflußregler geleitet.Mit diesem läßt sich der Mischungsanteil des Reaktionsgases einstellen und konstantMischkammer mit weiteren Gaslinien.halten bzw. gezielt zeitlich verändern. Nach einer Mischkammer, die die Gase vermengt,werden sie dem Zuchtofen zugeleitet. Jede Leitung, mit Ausnahme der von H 2 kann ausSicherheits- und Sauberkeitsgründen mit Argon geflutet werden. Dafür muß manuell je einSystem von Hähnen geöffnet bzw. geschlossen werden.Ein wesentlicher Teil des Gaszuführsystems sind die elektronisch gesteuerten Massenflußregler,die den Durchfluß und damit das genaue Mischungsverhältnis im Reaktionsofen bestimmen.Eine schematische Darstellung ihres Aufbaus ist in Abbildung (36) wiedergegeben. DerGas chemische Formel Mischung MaximalflußSilan SiH 4 1% – 3 % in Ar 2 l / minGerman GeH 4 1% in Ar 0,1 oder 2 l / minWasserstoff H 2 100 % 2 l / minChlorwasserstoff HCl 1% in H 2 1 l / minArgon Ar 100%, 3 FlaschenTabelle (4):Verfügbarkeit der Gase in unserer Epitaxieanlage.