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Etude de la fiabilité porteurs chauds et des performances des ...

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tel-00117263, version 2 - 29 Jan 2007<br />

Chapitre II<br />

FIG. II.20 – Dérivée par rapport au niveau bas variable du pulse <strong>de</strong>s courbes CP pendant les<br />

injections d’électrons <strong>chauds</strong> pendant ts = 40000 [29].<br />

Ces aspects seront abordés au Chapitre III.<br />

II.2.4 Contraintes <strong>et</strong> limitations<br />

La technique <strong>de</strong> pompage <strong>de</strong> charges s’avère plus délicate à m<strong>et</strong>tre en pratique que les tech-<br />

niques I-V présentées plus haut. En eff<strong>et</strong> les paramètres <strong>de</strong>s pulses à utiliser sont différents<br />

pour chaque technologie analysée. La mesure ne doit pas être génératrice <strong>de</strong> dégradation dans<br />

<strong>la</strong> structure, le signal <strong>de</strong> Grille doit donc se situer dans l’intervalle [−VDD; VDD], <strong>de</strong> manière à<br />

maintenir le champ dans l’oxy<strong>de</strong> dans <strong>de</strong>s proportions raisonnables. Ceci revient à respecter les<br />

conditions :<br />

Vfb − ∆VA ≥ −VDD (II.41)<br />

∆VA + Vt ≤ VDD (II.42)<br />

|Vfb − Vt| ≤ ∆VA (II.43)<br />

Dans le cas <strong>de</strong>s mesures à un niveau fixé, les conditions (II.41) <strong>et</strong> (II.42) doivent être réalisées<br />

à <strong>la</strong> fin <strong>de</strong> <strong>la</strong> mesure, c’est à dire quand ∆VA est maximal.<br />

Si ces conditions sont re<strong>la</strong>tivement faciles à réaliser, les technologies successives ont introduit<br />

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